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電子發燒友網>今日頭條>半導體晶片鍵合的對準方法

半導體晶片鍵合的對準方法

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2012-05-09 08:48:15308

碳基半導體與碳化硅晶片有什么區別

我國近日在碳基半導體材料的研制方面有了非常重要突破,近日在碳化硅晶片量產方面也取得重大進展,相同的“碳”字,不同的材料,一個是晶片,一個是芯片。
2020-06-13 10:33:2529197

半導體晶片濕蝕工藝的浮式數值分析

本研究透過數值解析,將實驗上尋找硅晶片最佳流動的方法,了解目前蝕刻階段流動的形式,并尋求最佳晶片蝕刻條件,蝕刻工藝效率低利用氣泡提高濕法蝕刻工藝效果,用實驗的方法尋找最佳流動,通過數值分析模擬了利用
2022-01-19 17:11:32340

半導體晶片上粒子沉積的實驗研究

半導體晶片上的粒子沉積是集成電路制造中的一個重要問題。隨著集成電路的特征尺寸接近亞微米的尺寸,晶片上的顆粒沉積是造成產品損失的主要原因。我們開發了一種用于檢測半導體晶片上顆粒沉積的靈敏方法。該方法
2022-02-22 15:17:09905

晶片清洗是半導體制造中的一個基礎步驟

摘要 在許多半導體器件的制造中,硅是最有趣和最有用的半導體材料。在半導體器件制造中,各種加工步驟可分為文章全部詳情:壹叁叁伍捌零陸肆叁叁叁四大類,即沉積、去除、圖形化和電性能的修改。在每一步中,晶片
2022-02-23 17:44:201426

清洗半導體晶片方法說明

摘要 該公司提供了一種用于清洗半導體晶片方法和設備 100,該方法方法包括通過從裝載端口 110 中的盒中取出兩個或多個晶片來填充化學溶液的第一罐將晶片放入。將晶片放入裝滿液體的第一槽(137
2022-02-28 14:56:03927

半導體工藝—晶片清洗工藝評估

摘要 本文介紹了半導體晶片加工中為顆粒去除(清洗)工藝評估而制備的受污染測試晶片老化的實驗研究。比較了兩種晶片制備技術:一種是傳統的濕法技術,其中裸露的硅晶片浸泡在充滿顆粒的溶液中,然后干燥;另一種
2022-03-04 15:03:502588

濺射工藝對晶片碎片的影響

  介紹了半導體晶片制造設備濺射機和濺射工藝對晶片碎片的影響,給出了如何減少晶片應力以達到少碎片的目的。
2022-03-10 14:45:082

半導體制造過程中的硅晶片清洗工藝

在許多半導體器件的制造中,硅是最有趣和最有用的半導體材料。 在半導體器件制造中,各種加工步驟可分為四大類,即沉積、去除、圖形化和電性能的修改。 在每一步中,晶片清洗都是開發半導體電子器件的首要和基本步驟。 清洗過程是在不改變或損壞晶圓表面或基片的情況下去除化學物質和顆粒雜質。
2022-04-01 14:25:332948

一種用濕式均勻清洗半導體晶片方法

本發明公開了一種用濕式均勻清洗半導體晶片方法,所公開的本發明的特點是:具備半導體晶片和含有預定清潔液的清潔組、對齊上述半導體晶片的平坦區域,使其不與上述清潔組的入口相對、將上述對齊的半導體晶片浸入
2022-04-14 15:13:57604

提升半導體光刻設備生產效率 佳能推出晶圓測量機新品

來源:佳能 在日趨復雜的先進半導體制造工序中實現高精度的校準測量 佳能于2023年2月21日推出半導體制造用晶圓測量機“MS-001”,該產品可以對晶片進行高精度的對準測量※1。 在邏輯和存儲器
2023-02-22 15:38:04603

半導體專用設備已累計交付20余家半導體行業客戶

6月8日勁拓股份有限公司,據最新調研紀要的半導體舉行公共費用和專用設備的半導體晶片制造設備,包括半導體召開公共非先進的成套制造等生產階段的熱處理設備,半導體晶片制造設備是半導體晶片生產過程中使用的。”
2023-06-09 10:57:21550

北方華創“半導體晶片處理腔室及半導體處理設備”專利獲授權

根據發明專利要點,該公司提供的一種半導體晶片處理腔室及半導體處理設備;半導體晶片處理腔室包括腔體、設置在該腔體內可沿豎直方向移動的片盒和設置在腔體內的加熱組件,還包括溫度檢測組件,該溫度檢測組件的檢測部為溫度檢測板
2023-11-15 10:38:31312

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