文獻[45]實測的對應8/20us和1/2.5us的雙指數電流沖擊波的電壓響應,作用在ZnO閥片上的電壓均超前電流到達峰值,試驗中的測量采用帶孔閥片的同軸布置方式，可以減小試驗回路中電感的影響。所有測量
2024-03-22 08:00:53
磁控濺射技術是在真空中，經電場作用，將氬氣電離成Ar+正離子，Ar+經加速后撞擊靶材膜料，從而濺射到襯底上，制成薄膜。
2024-03-20 11:27:13
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由于只有熱氧化法可以提供最低界面陷阱密度的高質量氧化層，因此通常采用熱氧化的方法生成柵氧化層和場氧化層。
2024-03-13 09:49:05103 
1、三相組合式過電壓保護器采用氧化鋅非線性電阻和放電間隙相組合的結構，使二者互為保護。放電間隙使氧化鋅電阻的荷電率為零，氧化鋅的非線性特性又使放電間隙動作后立即熄弧，無續流，無截波，放電間隙不再承受
2024-03-12 10:44:0360 碳化硅圓盤壓敏電阻 |碳化硅棒和管壓敏電阻 | MOV / 氧化鋅 （ZnO） 壓敏電阻 |帶引線的碳化硅壓敏電阻 | 硅金屬陶瓷復合電阻器 |ZnO 塊壓敏電阻 關于EAK碳化硅壓敏電阻我們
2024-03-08 08:37:49
隨著太陽能電池技術的快速迭代，異質結太陽能電池因其高轉換效率、高開路電壓、低溫度系數、低工藝溫度、可雙面發電等優點而受到廣泛關注。其中ITO薄膜在異質結太陽能電池中發揮著重要作用，其制備過程中
2024-03-05 08:33:28278 
ITO薄膜在提高異質結太陽能電池效率方面發揮著至關重要的作用，同時優化ITO薄膜的電學性能和光學性能使太陽能電池的效率達到最大。沉積溫度和濺射功率也是ITO薄膜制備過程中的重要參數，兩者對ITO薄膜
2024-03-05 08:33:20235 相對于塊體材料，膜一般為二維材料。薄膜和厚膜從字面上區分，主要是厚度。薄膜一般厚度為5nm至2.5μm，厚膜一般為2μm至25μm，但厚度并不是區分薄膜和厚膜的標準。
2024-02-28 11:08:51370 在半導體制造領域，我們經常聽到“薄膜制備技術”，“薄膜區”，“薄膜工藝”等詞匯，那么有厚膜嗎？答案是：有。
2024-02-25 09:47:42237 
蝕刻時間和過氧化氫濃度對ZnO玻璃基板的影響 本研究的目的是確定蝕刻ZnO薄膜的最佳技術。使用射頻濺射設備在玻璃基板上沉積ZnO。為了蝕刻ZnO薄膜，使用10%、20%和30%的過氧化氫（H2O2
2024-02-02 17:56:45306 
Molex 的薄膜電池由鋅和二氧化錳制成，讓最終用戶更容易處置電池。大多數發達國家都有處置規定;這使得最終用戶處置帶有鋰電池的產品既昂貴又不便。消費者和醫療制造商需要穿著舒適且輕便的解決方案
2024-01-26 15:51:04
高質量的p型隧道氧化物鈍化觸點(p型TOPCon)是進一步提高TOPCon硅太陽能電池效率的可行技術方案。化學氣相沉積技術路線可以制備摻雜多晶硅層，成為制備TOPCon結構最有前途的工業路線之一
2024-01-18 08:32:38288 動力。 濺射靶材是制備半導體晶圓、顯示面板、太陽能電池等表面電子薄膜的核心材料。其純度、致密度和成分均勻性等性能對下游客戶的鍍膜質量具有直接影響。超卓航科所采用的冷噴涂技術，作為一種頗具前景的固態粉末沉積方法
2024-01-15 10:35:5887 
。 一、薄膜電容的工藝 薄膜電容的制造工藝主要包括金屬薄膜沉積、光刻、腐蝕等步驟。 金屬薄膜沉積：金屬薄膜沉積是薄膜電容制備過程中的關鍵步驟，它直接影響到電容的性能。金屬薄膜沉積方法有蒸發鍍膜、磁控濺射等。蒸發
2024-01-10 15:41:54443 
近年來，隨著研究人員對紅外微光學元器件的深入研究，高精度制備器件備受關注。傳統的制備技術存在許多缺點，而飛秒激光有著超強、超快的特性，非常合適用來制備紅外微光學元器件。
2023-12-29 16:25:01224 
2023年12月，日本Novel Crystal Technology宣布采用垂直布里奇曼（VB）法成功制備出直徑6英寸的β型氧化鎵（β-Ga2O3）單晶。通過增加單晶襯底的直徑和質量，可以降低β-Ga2O3功率器件的成本。
2023-12-29 09:51:35339 
在太陽能電池的沉積工藝中，制備高性能的ITO薄膜是其首要任務。電池廠商在制備ITO薄膜時，往往需要考慮自身的方阻與影響ITO薄膜方阻的因素，從而在了解的基礎上更好的解決對ITO薄膜方阻有不利
2023-12-28 08:33:00418 石墨烯的制備方法主要有2類（圖1）：一為“自上而下”法，即通過物理或者化學方法對碳材料進行剝離或者剪切，從而獲得高品質石墨烯，主要包括機械剝離法、氧化還原法及電弧放電法等。
2023-12-27 10:23:37135 
氧化鋅避雷器具有良好的保護性能，在電氣系統和低壓電路中應用的很多。氧化鋅避雷器的工作原理是利用了氧化鋅壓敏電阻的非線性特點。
2023-12-25 11:35:07489 
芯片晶圓里TaN薄膜是什么？TaN薄膜的性質、制備方法 TaN薄膜是一種在芯片晶圓制備過程中常用的材料。它具有高熔點、高硬度和良好的熱穩定性，因此在芯片技術中應用廣泛。本文將對TaN薄膜的性質和制備
2023-12-19 11:48:16376 氧化誘導期分析儀是一款用于測量材料在氧化過程中的誘導期的儀器。它通過測量材料在氧化過程中產生的熱量變化，從而確定材料的氧化誘導期。氧化誘導期分析儀具備哪些優勢？1、準確性高。該儀器采用較高的測量技術
2023-12-14 13:33:45127 
電力安全是至關重要的。為了確保電力系統的穩定運行，氧化鋅避雷器發揮著重要的作用。 氧化鋅避雷器是一種用于電力系統的過電壓保護設備。它采用高性能的氧化鋅電阻片，能夠在雷電或操作過電壓等情況下，迅速
2023-12-14 10:26:59177 薄膜沉積技術主要分為CVD和PVD兩個方向。 PVD主要用來沉積金屬及金屬化合物薄膜,分為蒸鍍和濺射兩大類，目前的主流工藝為濺射。CVD主要用于介質/半導體薄膜，廣泛用于層間介質層、柵氧化層、鈍化層等工藝。
2023-12-05 10:25:18994 常重要的技術之一，其次由于具有濺射速率高，沉積速率高，沉積溫度低，薄膜質量好的等優點，越來越受到有關方面的關注。 磁控濺射原理 磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子；新電
2023-12-04 11:17:41243 
在現代工業和科技應用中，壓力變送器是不可或缺的關鍵元件之一。而在特定環境下，如受到高強度震動沖擊、高溫高壓等極端條件的影響時，濺射薄膜壓力變送器就顯得尤為重要。濺射薄膜技術是一種先進的制造工藝，它為
2023-11-22 17:40:41532 
眾所周知，材料的宏觀性質，例如硬度、熱和電傳輸以及光學描述符與其微觀結構特征相關聯。通過改變加工參數，可以改變微結構，從而能夠控制這些性質。在薄膜沉積的情況下，微結構特征，例如顆粒尺寸和它們的顆粒
2023-11-22 10:20:59213 
氧化鋅的靈敏度、成本效益、環境兼容性、穩定性和集成能力，使其成為監測并降低二氧化碳排放的高效氣體傳感系統不可或缺的材料。
2023-11-21 12:31:43265 
在當今的高壓電力系統中，氧化鋅避雷器扮演著至關重要的角色。它的實用性在于能夠有效地保護電力設備免受雷電過電壓和操作過電壓的損害，從而確保了電力系統的穩定運行。 氧化鋅避雷器是一種特殊的避雷器，它采用
2023-11-16 15:59:36167 
上海伯東美國 KRi 高能量射頻離子源 RFICP 220 應用于光學鍍膜機, 增強光學基片反射及透射率, 助力光學薄膜技術發展.
2023-11-14 12:57:22305 釩敏感材料采用微測輻射熱計技術與CMOS工藝兼容，能夠與CMOS讀出電路集成，可以基于半導體制造工藝大規模生產制造，屬于半導體熱敏薄膜，薄膜電阻溫度系數與電阻率都成正
2023-11-03 16:54:37280 
在電力系統中，氧化鋅避雷器是一種重要的保護設備，用于防止雷電和電力系統過電壓對設備造成的損害。然而，如果氧化鋅避雷器被擊穿，它還能繼續使用嗎？首先，我們要了解什么是氧化鋅避雷器。氧化鋅避雷器是一種
2023-11-01 16:51:44373 復合銅箔是指在塑料薄膜 PET、PP、PI 等材質表面上采用磁控濺射、蒸鍍、離子置換等方式，將銅均勻地鍍在塑料薄膜表面從而制作而成的一種新型材料。
2023-10-27 15:22:18430 
濺射是一種在晶圓表面形成金屬薄膜的物理氣相沉積(PVD)6工藝。如果晶圓上形成的金屬薄膜低于倒片封裝中的凸點，則被稱為凸點下金屬層(UBM，Under Bump Metallurgy)。通常
2023-10-20 09:42:212737 
在異質結太陽能電池的結構中，ITO薄膜對其性能的影響是非常重要且直接的，ITO薄膜自身的優劣與制備ITO薄膜過程的順利往往能直接決定異質結太陽能電池的后期生產過程以及實際應用是否科學有效
2023-10-16 18:28:09700 電子發燒友網站提供《基于ARM的擴散氧化控制系統的設計.pdf》資料免費下載
2023-10-12 11:20:41
0 規模化制備具有高強度和優異導電性的自支撐薄膜電極對于超級電容器等柔性電子產品的發展至關重要。受植物葉片的啟發，華南理工大學王小慧教授團隊將“葉肉狀”MXene (Ti3C2TX) 納米片、“葉脈狀”纖維素細絲和銀納米線 (Ag NW) 進行快速真空抽濾得到自支撐復合薄膜。
2023-10-08 10:28:19285 
薄膜和多層中的應力會降低性能，甚至導致技術應用中的故障，通過諸如破裂、彎曲或分層的機制。然而，在某些情況下，應力是理想的，因為它可以用來提高涂層的特定性能，例如導電性，熱穩定性，機械強度或磁性。由于這個原因，評估和控制薄膜和涂層的應力狀態具有技術重要性。
2023-09-28 10:04:13196 
PECVD作為太陽能電池生產中的一種工藝，對其性能的提升起著關鍵的作用。PECVD可以將氮化硅薄膜沉積在太陽能電池片的表面，從而有效提高太陽能電池的光電轉換率。但為了清晰客觀的檢測沉積后太陽能電池
2023-09-27 08:35:491772 一氧化碳檢測儀是一種用于公共場所具有檢測及超限報警功能的儀器，能起到預防一氧化碳中毒的效果，使人們安全放心的工作。系統以單片機為核心，利用一氧化碳檢測傳感器檢測環境中的一氧化碳的濃度，并利用顯示器顯示當前的濃度值，同時可設定報警值，超過設定值時進行聲光報警。
2023-09-25 06:39:48
隨著消費者和商業應用對快速通信需求的不斷增長，射頻器件的工作頻率要求也變得越來越高，這給射頻器件的設計師們帶來了諸多挑戰
2023-09-18 16:53:39619 
工業上制備傳統塑料薄膜的主要方法有擠出吹塑法、擠出流延法（含雙向拉伸）、壓延法、溶液流延法等。其中高性能塑料薄膜的制備方法主要有擠出吹塑法、擠出流延法、溶液流延法等，前兩種方法是工業化大規模生產的首選方法，而溶液流延法因受環境保護等的限制，目前主要是實驗室研究制樣用。
2023-09-13 15:36:09767 
作為各類薄膜工業化制備的關鍵材料，濺射靶材廣泛應用于半導體集成電路、平面顯示、太陽能電池、信息存儲、低輻射玻璃等領域。但由于各應用領域對濺射靶材的制備技術、產品性能等要求各異，這就意味著能夠滿足
2023-08-25 10:56:34173 性能。在射頻應用中，多層陶瓷電感可支持更高額定電流和更大電感值。
應用：
音頻/視頻：音頻設備、音響功放、音響/揚聲器、監視器
汽車：電子節氣門控制系統（ETC）、胎壓監測系統
消費
2023-08-22 09:29:59
氧化鎵（Ga2O3）半導體具有4.85 eV的超寬帶隙、高的擊穿場強、可低成本制作大尺寸襯底等突出優點。
2023-08-17 14:24:16412 
高性能濺射靶材行業技術壁壘較高，涉及電子光學、工程學、材料學、物理學、化學等多門專業學科，融合了微觀結構控制、靶材結構設計、金屬粉末制備、高精度成型、機加工、綁定焊接、清洗包裝等多個專業技術
2023-08-17 09:12:44158 近年來，廣東歐萊高新材料股份有限公司（下稱：歐萊新材）等國內濺射靶材廠商在下游產業快速發展的帶動下逐漸發展壯大，通過持續自主研究開發突破關鍵技術，不斷加大力度開拓各下游應用領域的知名客戶，在部分
2023-08-16 10:24:31184 K 系列壓敏電阻器氧化鋅壓敏電阻器是以氧化鋅為主要材料制造的半導體無極性電子陶瓷元件。當施加在壓敏電 阻器兩端的電壓達到某一閥值時，壓敏電阻器的電阻值迅猛變小，從而在電子（電力）線路
2023-08-12 16:12:23
石墨烯作為一種特殊的二維材料，具有高導電性、 高比表面積以及優異的化學和機械穩定性，金屬氧化物納米顆粒與石墨烯結合制備獲得的復合催化劑材料，可增強催化劑體系的導電性、分散性、ORR活性以及穩定性
2023-08-11 10:45:39364 在電力系統中，保護設備免受雷電沖擊和過電壓的影響至關重要。氧化鋅避雷器作為一種先進的過電壓保護設備，經歷了漫長的發展過程，并在不斷地進步和完善。 氧化鋅避雷器的發展可以追溯到19世紀末期，當時
2023-08-09 14:27:41301 一、產品簡介避雷器在線檢測儀用于氧化鋅[MOA]泄漏電流的測量分析。主要是用于測量阻性電流，3～7次諧波電流，從而分析氧化鋅老化和受潮的程度。是檢測氧化鋅避雷器運行中的各項交流電氣參數
2023-08-09 10:49:13
一、產品簡介HM6020氧化鋅避雷器測試儀是專門用于檢測10kV及以下電力系統用無間隙氧化鋅避雷器MOA閥電間接觸不良的內部缺陷，測量MOA的直流參考電壓（U1mA）和0.75 U1mA
2023-08-08 11:01:16
氧化鋅避雷器是一種用于保護電氣設備免受電壓過載損害的裝置。其工作原理是基于氧化鋅的電阻特性，在高壓下阻值迅速增加，從而限制電流，使電氣設備免受過度電壓的損害。以下將詳細介紹氧化鋅避雷器的用途
2023-08-07 15:43:24723 一、產品簡介HM6010氧化鋅避雷器測試儀以先進的微型計算機為控制部件，全智能操作，具有抗干擾能力強，測量準確可靠,功能強大,操作方便等優點，是現場和實驗室檢測氧化鋅避雷器各項交流電
2023-08-07 11:25:59
氮化鋁（AlN）具有優良的物理化學特性以及與標準CMOS晶硅技術的兼容性，且在多方面性能上優于氧化鋅（ZnO）和鋯鈦酸鉛（PZT），因此成為最受關注的壓電材料之一。
2023-07-28 11:33:32587 
由遇水膨脹的交聯聚合物網絡組成的超薄水凝膠薄膜，具有類似生物組織的柔軟和保濕特性，在柔性生物傳感器和可穿戴電子產品中發揮著至關重要的作用。然而，實現這種薄膜的高效和連續制備仍然是一個挑戰。
2023-07-24 18:23:462109 
柔性光電膜是?種由透明導電材料和聚合物基材組成的薄膜。其中，透明導電材料可以是ITO、ZnO、Ag等，聚合物基材可以是PET、PI等?分?材料。柔性光電膜的制備過程是通過物理?相沉積、溶液法、熱轉印
2023-07-17 15:29:02503 氧化鋁是一種化學化合物，由鋁和氧元素組成，化學式為Al2O3。它是一種非導電的陶瓷材料，具有高熔點、高硬度和優異的耐腐蝕性。氧化鋁廣泛應用于陶瓷制品、磨料、催化劑、絕緣材料等領域。在工業上，氧化鋁常用于制備金屬鋁的原料。
2023-07-05 16:30:154542 ）上。??? 高質量固態納米孔的制備是DNA測序、納流器件以及納濾膜等應用的關鍵技術。當前，在無機薄膜材料中制備固態納米孔的主流方法是聚焦離子/電子束刻蝕。該方法在制備過程中需實時反饋，更適合于單個納米孔的制備。因此，探索孔徑可調、孔密度可控和無
2023-07-04 11:10:56364 
高質量固態納米孔的制備是DNA測序、納流器件以及納濾膜等應用的關鍵技術。當前，在無機薄膜材料中制備固態納米孔的主流方法是聚焦離子/電子束刻蝕。
2023-07-04 11:08:08137 
的發明歷史 自發現電性質以來，人們一直在探索和研發導電材料。20世紀50年代，美國貝爾實驗室的研究人員發現了導電聚合物薄膜，并于1977年獲得了專利。隨著科技的進步，導電聚合物薄膜逐漸被替代，金屬氧化物薄膜逐漸成為主流。目前，
2023-06-30 15:38:36958 近日，復合集流體設備廠商——無錫光潤真空科技有限公司（下稱“光潤真空”）完成天使輪融資，本輪融資由無錫市天使基金獨家完成。本輪融資資金將主要用于推進復合集流體專用磁控濺射鍍膜設備的研發生產，加速
2023-06-30 15:28:12525 電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發生濺射。
2023-06-27 10:08:555835 
DPC（磁控濺射）陶瓷基板是一種重要的電子材料，主要應用于微電子器件、集成電路、LED等領域。銅面處理是提高DPC（磁控濺射）陶瓷基板性能的重要手段。本文將從銅面處理方法和處理后的性能影響兩個方面探討DPC（磁控濺射）陶瓷基板的銅面處理及其對性能的影響。
2023-06-25 14:35:51472 
近年來，薄膜陶瓷基板在電子器件中的應用逐漸增多。在制備和應用過程中，介電常數是一個極其重要的參數，不同介電常數的薄膜陶瓷基板在性能方面存在較大差異。本文旨在研究介電常數對薄膜陶瓷基板性能的影響，為薄膜陶瓷基板的制備和應用提供理論依據和實驗數據。
2023-06-21 15:13:35623 
高溫下DPC（磁控濺射工藝）覆銅陶瓷基板的設計和應用
2023-06-19 17:35:30654 
陶瓷線路板（ceramic circuit boards，CCBs）是一種由陶瓷材料制成的電路板，因其高耐熱、耐濕、耐化學腐蝕等特性而廣泛應用于軍工、航空航天、醫療器械等領域。在制造陶瓷線路板時，磁控濺射工藝是一種重要的制造技術。
2023-06-17 14:41:04601 
上海微系統所異質集成XOI課題組孵化的上海新硅聚合半導體有限公司（簡稱：新硅聚合）近期實現了6英寸的光學級硅基高均勻性鈮酸鋰薄膜（LNOI）的工程化制備。
2023-06-09 09:43:15949 
離子束輔助沉積 (IBAD) 是一種薄膜沉積技術，可與濺射或熱蒸發工藝一起使用，以獲得具有出色工藝控制和精度的最高質量薄膜。
2023-06-08 11:10:22983 
工藝區別傳統方法，以磁控濺射新技術在完成金屬化制作的陶瓷線路板上生長一層陶瓷介質，再在這層介質上重新金屬化制作第二層線路。
2、陶瓷基板性能和應用不同。 陶瓷基板的導熱率遠遠超過普通PCB板，氧化鋁陶瓷
2023-06-06 14:41:30
薄膜電容是指將金屬膜或半導體薄膜沉積在絕緣基板上，然后制成電容器。這種電容器具有結構簡單、體積小、重量輕、可靠性高等特點，被廣泛應用于電子設備領域。本文將從薄膜電容的基本原理、制備工藝、應用領域等方面進行介紹。
2023-05-31 14:24:552881 據麥姆斯咨詢報道，近期，天津理工大學的研究人員采用電子輔助熱絲化學氣相沉積技術制備了垂直石墨烯（VG），并且通過B原子和N原子的單獨及同步摻雜，制備了B摻雜垂直石墨烯（BVG）、N摻雜垂直石墨烯（NVG）以及B-N共摻雜垂直石墨烯（BNVG）薄膜
2023-05-29 14:13:02467 
薄膜電容是以金屬箔當電極，將其和聚乙酯，聚丙烯，聚苯乙烯或聚碳酸酯等塑料薄膜，從兩端重疊后，卷繞成圓筒狀構造的電容器。電解電容是以金屬箔為正極(鋁或鉭)，與正極緊貼金屬的氧化膜(氧化鋁或五氧化
2023-05-26 17:03:234717 
PVD篇 PVD是通過濺射或蒸發靶材材料來產生金屬蒸汽，然后將金屬蒸汽冷凝在晶圓表面上的過程。應用材料公司在 PVD 技術開發方面擁有 25 年以上的豐富經驗，是這一領域無可爭議的市場領導者
2023-05-26 16:36:511749 上海伯東客戶某高校使用國產品牌離子束濺射鍍膜機用于金屬薄膜制備, 工藝過程中, 國產離子源鎢絲僅使用 18個小時就會燒斷, 必須中斷鍍膜工藝更換鎢絲, 無法滿足長時間離子束濺射鍍膜的工藝要求, 導致
2023-05-25 15:53:36770 
上海伯東美國 KRi 考夫曼品牌 RF 射頻離子源, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標, 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積 和 IBD 離子束沉積是其典型的應用.
2023-05-25 10:18:34501 
上海伯東代理美國 KRi 考夫曼離子源適用于安裝在 MBE 分子束外延, 濺射和蒸發系統, PLD 脈沖激光系統等, 在沉積前用離子轟擊表面, 進行預清潔 Pre-clean 的工藝, 對基材表面有機物清洗, 金屬氧化物的去除等, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應力, 工藝效率等！
2023-05-25 10:10:31378 
以金剛石、氧化鎵、氮化鋁、氮化硼、石墨烯等為代表的超寬禁帶半導體材料具有更高的禁帶寬度、熱導率以及材料穩定性，有著顯著的優勢和巨大的發展潛力，越來越得到國內外的重視。
2023-05-24 10:44:29568 
覆銅陶瓷基板（Direct Plating Copper, DPC）工藝：是一種用于制備高密度電子封裝材料的工藝方法。 該工藝是微電子制造中進行金屬膜沉積的主要方法，主要用蒸發、磁控濺射等面沉積
2023-05-23 16:53:511333 
氧化鋅揮發窯是化工行業中廣泛應用的生產設備,作為一種高溫下運行的大型設備,保證設備安穩定全運行、節能減排十分重要。 通過傳感器與工業物聯網的結合，物通博聯推出一套氧化鋅揮發窯在線監測系統，可以連接
2023-05-22 10:40:28227 
改善之后的工藝與之前最大的區別在于使用光刻膠充當濺射的掩膜，在電鍍之前將電路圖形高精度的制備出來，不再進行濕法刻蝕，避免了側腐蝕對線條精度和膜基結合力的影響，同時，基板只浸入丙酮中一次以去除光刻膠，避免了大量溶液的使用
2023-05-16 09:40:351218 
MOV（Metal Oxide Varistors）即金屬氧化物壓敏電阻，以氧化鋅為主體，摻雜多種金 屬氧化物，采用典型的電子陶瓷工藝制成的多晶半導體陶瓷元器件。
2023-05-15 12:25:543236 
薄膜陶瓷基板一般采用磁控濺射、真空蒸鍍等工藝直接在陶瓷基片表面沉積金屬層。通過光刻、顯影、刻蝕、電鍍等工藝，將金屬層圖形化制備成特定的線路及膜層厚度。通常，薄膜陶瓷基板表面金屬層厚度較小 (一般小于 4μm)。薄膜陶瓷基板可制備高精密圖形 (線寬/線距小于 10 μm、精度±1μm）。
2023-05-15 10:18:56591 α-氧化鋁（下稱氧化鋁）導熱粉體因來源廣，成本低，在聚合物基體中填充量大，具有較高性價比，是制備導熱硅膠墊片最常用的導熱粉體。氧化鋁形貌有球形、角型、類球形等，不同形貌對熱界面材料的加工性能、應用性
2023-05-12 14:57:30385 DPC（DirectPlatingCopper）薄膜工藝是一種利用磁控濺射技術制備銅薄膜的方法。該工藝是將目標材料為銅的銅靶放置在真空腔室中，通過磁控濺射技術使得銅靶表面產生等離子體，利用等離子體中的離子轟擊靶表面，將其濺射成細小顆粒并沉積在基底上形成銅薄膜的過程。
2023-05-11 17:38:18843 在POM板上磁控濺射下電極，再用旋涂法把PVDF油墨旋涂到下電極上，再在壓電層上磁控濺射上上電極形成三明治結構，但是上下電極都是短路狀態，造成短路的可能原因是什么？壓電層厚度約為2nm，電極厚度約為30um。
2023-04-28 18:21:06
的一部分，不依賴化石燃料的能源成為此次會議的主要話題。此外，人們對太陽能電池也有很高期待。引起特別關注的鈣鈦礦太陽能電池(PSC)在市場上需求特別高，成為新一代太陽能電池。鈣鈦礦是電池中非常精細的有機層組成的結構，而使用干燥濺射法的傳統技術在沉積時會損壞透明導電氧化物(TCO)薄膜，導致有機層降解
2023-04-25 05:50:25414 薄膜按鍵都是“按鍵+薄膜”的基本結構，所以，按鍵的手感、特色等很大方面都取決于薄膜按鍵的設計。考慮到開關觸點的分離和回彈的可靠性，薄膜的厚度一般選擇在為佳,過薄回彈無力，觸點分離不靈敏。薄膜按鍵
2023-04-21 11:02:191389 
氧化鋁陶瓷基片作為一種基板材料廣泛應用于射頻微波電子行業，其介電常數高可使電路小型化，其熱穩定性好溫漂小，基片強度及化學穩定性高，性能優于其他大部分氧化物材料，可應用于各類厚膜電路、薄膜電路、混合電路、微波組件模塊等。
2023-04-19 16:14:48602 有人曾這樣形容磁控濺射技術——就像往平靜的湖水里投入了石子濺起水花。磁控濺射真空鍍膜技術是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition）的一種，其原理是：用帶電粒子加速轟擊靶材表面，發生表面原子碰撞并產生能量和動量的轉移，使靶材原子從表面逸出并沉積在襯底材料上的過程。
2023-04-18 10:30:071765 薄膜開關的三大特點，希望大家通過本文的介紹，可以對薄膜開關的工作有一定的認識與了解：（1）密封性能好：因為薄膜開關是一種整體都密封起來的零件，開關的觸點不受外界環境的干擾，所以不用擔心腐蝕的問題，也不容易產生氧化;同時還可以防灰塵的污染，可以應用在各種惡劣的環境中....
2023-04-14 16:53:33606 
該平臺擁有超凈間面積約300平方米，其中百級潔凈區50平米，配備了可完整涵蓋微加工需求的大、中、小型設備，包括電子束曝光機、掃描電鏡、磁控濺射儀、等離子刻蝕機、快速退火爐、精密貼片機、勻膠機、離子濺射儀、膜厚計、原子力顯微鏡、任意波形發生器、高速采樣示波器、信號分析儀、網絡分析儀等。
2023-04-10 11:24:06712 浙江大學高超課題組以氧化石墨烯(GO，28 μm，杭州高稀科技)/聚丙烯腈(PAN)薄膜為前驅體，利用基底替換和協同石墨化策略，制備了大尺寸和緊密堆疊的組裝石墨烯納米膜(nMAG，橫向尺寸20 cm，厚度范圍50-600 nm)。
2023-04-10 10:20:43833 氧化鋅壓敏電阻以氧化鋅（ZnO）為基料，加入Bi2O3、Co2O3、MnCO3等多種金屬氧化物混合，經過高溫燒結、焊接、包封等多重工序制成的電阻器
2023-03-30 10:26:261973 經常定制薄膜開關和薄膜面板時候，對其步驟卻不甚了解，對此，雨菲跟大家分享薄膜開關和薄膜面板定制的步驟。
2023-03-29 17:02:451701 
薄膜電阻應用于光通訊、 射頻微波毫米波通訊，如放大、耦合、衰減、濾波等模塊電路。電阻網絡應用于微波集成電路中，能夠縮小電路板空間，降低元器件成本。薄膜衰減器應用于光通訊、微波集成電路模塊，其
2023-03-28 14:19:17
溝道表面的氧化釔薄膜由電子束蒸發鍍膜儀所蒸鍍的金屬釔加熱氧化形成，隨后在溝道表面蒸鍍金納米薄膜，金納米薄膜會自團聚形成金顆粒，自此完成浮柵型碳納米管場效應晶體管（FG-CNT-FET）的制備以及表面的金納米顆粒修飾。
2023-03-23 11:04:101455
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