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MIT研究院用銦鎵砷化合物造出史上最小晶體管

秩名 發表于 2012-12-11 11:14 | 分類標簽:銦鎵砷晶體管

  MIT的微系統實驗室(Microsystems Technology Laboratories)聲稱已經造出了史上最小的晶體管,用的卻是硅以外的材料。該晶體管由已經應用于光纖和雷達技術上的銦鎵砷化物(indium gallium arsenide,IGA)制造,厚度僅有22nm(約9股人類DNA)。因為這是在微處理器里使用的相同類型的晶體管,這意味著芯片可以更加密集、提供更高的性能。

  圖片來源:MIT News

  研究人員希望找到一個替代硅的材料,在更小的尺度上實現更高的速度和效率,以迫近摩爾定律所預測的進程。合作開發人員和麻省理工學院的教授Jesus del Alamo稱,這方面的發展“將確保摩爾定律達到硅片所不能達到的程度”(take Moore‘s Law beyond the reach of silicon)。

  MIT News的報道稱,研究人員下一步將提高晶體管的電氣性能和整體速度。若小組成功達到了這個目標,他們將繼續朝著小于10nm的目標前進。

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