資料介紹
在si ( 111)襯底上分別預沉積0,0.1,o.5,1 nm厚度的In插入層后,采用等離子輔助分子束外延法制備了纖鋅礦結構的I nN材料,結合x射線衍射(XRD) 、掃描電子顯微鏡(SEM) 、吸收譜及光致發光譜研究了不同厚度的I n插入層對外延I nN晶體質量和光學特性的影響。XRD和SEM的測試結果表明,在si 襯底上預沉積O.5 nm厚的I n插入層有利于改善外延I nN材料的形貌,提高材料的晶體質量。吸收譜和光致發光譜測試表明,0.5 nm厚I n插入層對應的I nN樣品吸收邊藍移程度最小,光致發射譜半峰寬最窄,并且有最高的帶邊輻射復合發光效率。可見,引入適當厚度的I nN插入層可以改善Si襯底上外延InN材料的晶體質量和光學特性。
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