資料介紹
本文通過VLSI與超純硅材料關系的論迷,闡明了我國VISI的發展急需解決高質量的
超純硅材料。提高大直經硅片的平行度;氧、筱含童穩定、均勻、可拉;提高徽區電阻率均勻性;硅
表面潔凈、具有密封、屏蔽的的防靜電包裝技術是當今硅材料發展的主攻課題。超純硅材料的完
美結晶特性和超精度的加工技術水平取決于基礎材料(化學試荊、高純氣體、)的高純度、小穎粗
和低雜質含責的控制
徽電子技術是人類先進科學和技術的集成,是人類知識和技術的結晶。高可靠的Ic又是現代電子整機系統的荃礎。Ic質量的好壞,直接影響著整機系統的使用壽命。在高科技含時量的空間領域內,一塊Ic不僅受到宇宙線的輻射,而且又可能時受到核能的襲擊。因此,研究高可靠、長壽命、細線條的VLSI,當前我國急需解決基礎材料方面的的干問題;抗輻射加固器件所用的高純硅材料更受到人們的關注。VISI所用的各種電子材料必需是高純度pp,級(-10-‘)、小顆粒、低雜質含
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