隨著射頻技術進入鍍膜工藝之后，射頻匹配也隨之成為需要解決的問題。射頻電源的功率應盡可能的用于鍍膜工藝中，系統的輸入功率直接影響到等離子體的濃度和壓力，也就直接影響了鍍膜的質量，關系到工藝水平的好壞。在一定條件下，鍍膜系統負載是隨時間發生變化的，這使得阻抗的自動匹配變得更為必要。而國內現在都是以手動匹配為主，射頻電源自動阻抗匹配器的發展是一個瓶頸。因此，自動匹配技術的研究有很重要的意義。

　　本文以真空實驗室的射頻RF-500型射頻等離子體增強CVD鍍膜機相配套的射頻電源阻抗匹配器RS-500為研究對象，對射頻電源的手動阻抗匹配器的原理和設計進行研究，并把傳入電表的信號傳入計算機中進行自動控制，實現自動匹配。本文以功率檢測模塊的詳盡設計和對系統建立的數學模型進行控制仿真為重點研究內容，結合功能較為完善、技術相對成熟的其他模塊如傳動模塊、信號轉換模塊等的分析研究，提出了射頻電源自動阻抗匹配器較為完善的設計方法，在總體結構設計原理上有一個相對完整的認識。

　　本文電路的設計是基于匹配原理的，即隨著鍍膜過程中等離子體阻抗的變化，通過阻抗匹配器來實現整體傳輸電路的共輛阻抗匹配，使得入射功率始終達到最大，反射功率達到最小，以保證鍍膜的質量。等離子體的變化，可以等視為電路中的一個阻抗，匹配器通過調節自身模塊中的兩個可變電容，來實現整個傳輸電路的共扼匹配。確定共扼匹配的方法是通過檢測入射功率和反射功率，使得入射功率達到最大，反射功率達到最小為宜。功率可由電流、電壓和兩者之間的相位來表征，即P=U*I‘cose。在功率檢測模塊，測量電流的電流互感器選用性能優于傳統線圈的Rogowski線圈，測量電壓的電壓互感器選用電容式電壓互感器，由于兩者的相位在鍍膜過程中固定，因此兩者的相位角不變，不用測量。由電流互感器和電壓互感器組成的定向耦合裝置，是功率檢測模塊的核心部分。本文著重分析了功率檢測模塊的電路，提出了合理的設計方案。然后通過對其他各個模塊的分析，得出可行性的設計方案。最后對傳輸電路進行數學模型的建立，并用MATLAB對信號進行PID控制仿真，得出了有效的控制方法。

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