資料介紹
MOSFET的基礎知識:2.功率MOSFET 的結構和工作原理:功率MOSFET的種類:按導電溝道可分為P 溝道和N 溝道。按柵極電壓幅值可分為;耗盡型;當柵極電壓為零時漏源極之間就存在導電溝道,增強型;對于N(P)溝道器件,柵極電壓大于(小于)零時才存在導電溝道,功率MOSFET 主要是N溝道增強型。
2.1 功率MOSFET 的結構
功率 MOSFET 的內部結構和電氣符號如圖1 所示;其導通時只有一種極性的載流子(多子)參與導電,是單極型晶體管。導電機理與小功率mos管相同,但結構上有較大區別,小功率MOS 管是橫向導電器件,功率MOSFET 大都采用垂直導電結構,又稱為VMOSFET(Vertical MOSFET),大大提高了MOSFET 器件的耐壓和耐電流能力。
按垂直導電結構的差異,又分為利用V 型槽實現垂直導電的VVMOSFET 和具有垂直導電雙擴散MOS 結構的VDMOSFET
(Vertical Double-diffused MOSFET),本文主要以VDMOS 器件為例進行討論。
功率 MOSFET 為多元集成結構,如國際整流器公司(International Rectifier)的HEXFET 采用了六邊形單元;西門子公司
(Siemens)的SIPMOSFET 采用了正方形單元;摩托羅拉公司(Motorola)的TMOS 采用了矩形單元按“品”字形排列。
2.2 功率MOSFET 的工作原理
截止:漏源極間加正電源,柵源極間電壓為零。P 基區與N漂移區之間形成的PN結J1 反偏,漏源極之間無電流流過。
導電:在柵源極間加正電壓UGS,柵極是絕緣的,所以不會有柵極電流流過。但柵極的正電壓會將其下面P 區中的空穴推
開,而將P 區中的少子—電子吸引到柵極下面的P 區表面
當UGS 大于UT(開啟電壓或閾值電壓)時,柵極下P 區表面的電子濃度將超過空穴濃度,使P 型半導體反型成N型而成為反型層,該反型層形成N溝道而使PN結J1消失,漏極和源極導電。
2.1 功率MOSFET 的結構
功率 MOSFET 的內部結構和電氣符號如圖1 所示;其導通時只有一種極性的載流子(多子)參與導電,是單極型晶體管。導電機理與小功率mos管相同,但結構上有較大區別,小功率MOS 管是橫向導電器件,功率MOSFET 大都采用垂直導電結構,又稱為VMOSFET(Vertical MOSFET),大大提高了MOSFET 器件的耐壓和耐電流能力。
按垂直導電結構的差異,又分為利用V 型槽實現垂直導電的VVMOSFET 和具有垂直導電雙擴散MOS 結構的VDMOSFET
(Vertical Double-diffused MOSFET),本文主要以VDMOS 器件為例進行討論。
功率 MOSFET 為多元集成結構,如國際整流器公司(International Rectifier)的HEXFET 采用了六邊形單元;西門子公司
(Siemens)的SIPMOSFET 采用了正方形單元;摩托羅拉公司(Motorola)的TMOS 采用了矩形單元按“品”字形排列。
2.2 功率MOSFET 的工作原理
截止:漏源極間加正電源,柵源極間電壓為零。P 基區與N漂移區之間形成的PN結J1 反偏,漏源極之間無電流流過。
導電:在柵源極間加正電壓UGS,柵極是絕緣的,所以不會有柵極電流流過。但柵極的正電壓會將其下面P 區中的空穴推
開,而將P 區中的少子—電子吸引到柵極下面的P 區表面
當UGS 大于UT(開啟電壓或閾值電壓)時,柵極下P 區表面的電子濃度將超過空穴濃度,使P 型半導體反型成N型而成為反型層,該反型層形成N溝道而使PN結J1消失,漏極和源極導電。
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