新型材料的出現(xiàn)和加工工藝水平的不斷提高，以及高靈敏度 CCD 器件和電子學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展，使得高分辨率光學(xué)遙感器成為世界各國在空間遙感領(lǐng)域研究的熱點(diǎn)。其中，高分辨率相機(jī)系統(tǒng)作為偵察手段之一而倍受關(guān)注。由于沒有地球大氣層的保護(hù)，系統(tǒng)在空間的工作環(huán)境比地面環(huán)境惡劣、復(fù)雜得多。來自銀河系，包括太陽的高能帶電粒子的轟擊、氣候的變化無常、力學(xué)環(huán)境的沖擊，使可靠性成為控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)中的關(guān)鍵問題，而其中的電磁兼容性（EMC）設(shè)計(jì)又是可靠性設(shè)計(jì)的重要一環(huán)。在新產(chǎn)品研發(fā)階段就進(jìn)行 EMC 設(shè)計(jì)，比等到產(chǎn)品 EMC 測試不合時(shí)再才進(jìn)行改進(jìn)，費(fèi)用可以大大節(jié)省，效率可以大大提高；反之，效率就會降低，費(fèi)用就會增加。因此在控制系統(tǒng)板級設(shè)計(jì)時(shí)，就要求我們盡量多地考慮 EMC 問題，力求將 EMI 降到最低。

　　01 形成干擾的基本要素

　　各種形式的電磁干擾（EMI）是影響電子設(shè)備電磁兼容性的主要因素，在電子系統(tǒng)設(shè)計(jì)中，為避免干擾，應(yīng)當(dāng)首先了解形成干擾的基本要素。形成干擾的基本要素有三個(gè)。

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　　1.1 干擾源

　　干擾源，指產(chǎn)生干擾的元件、設(shè)備或信號。干擾源一般分為內(nèi)部和外部兩種。內(nèi)部干擾是電子設(shè)備內(nèi)部各元部件之間的相互干擾。例如：（1）工作電源通過線路的分布電容和絕緣電阻產(chǎn)生漏電而造成的干擾;（2）信號通過地線、電源和傳輸導(dǎo)線的阻抗互相耦合，或?qū)Ь€之間的互感造成的干擾;（3）設(shè)備或系統(tǒng)內(nèi)部某些元件發(fā)熱，影響元件本身或其他元件的穩(wěn)定性造成的干擾;（4）大功率和高電壓部件產(chǎn)生的磁場、電場通過耦合影響其它部件造成的干擾。外部干擾是電子設(shè)備或系統(tǒng)以外的因素對線路、設(shè)備或系統(tǒng)的干擾。例如：（1）外部的高電壓、電源通過絕緣漏電而干擾電子線路、設(shè)備或系統(tǒng);（2）外部大功率的設(shè)備在空間產(chǎn)生很強(qiáng)的磁場，通過互感耦合干擾電子線路、設(shè)備或系統(tǒng);（3）空間電磁對電子線路或系統(tǒng)產(chǎn)生的干擾;（4）工作環(huán)境溫度不穩(wěn)定，引起電子線路、設(shè)備或系統(tǒng)內(nèi)部元器件參數(shù)改變造成的干擾。