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定偏心平面研磨均勻性研究:對(duì)修正環(huán)形拋光機(jī)CMP過程進(jìn)行運(yùn)動(dòng)分析,給出研磨盤上一點(diǎn)相對(duì)于工件的速度矢量與軌跡方程.詳細(xì)討論研磨盤上不同位置的點(diǎn)的相對(duì)軌跡,通過對(duì)相對(duì)速度的討論發(fā)現(xiàn),當(dāng)研磨盤與工件具有相同的角速度時(shí),有利于工件平面度的提高.重點(diǎn)分析開螺旋槽的研磨盤對(duì)工件平面度的影響,提出用偏心保持架裝置替代同心保持架裝置,有利于工件平面度提高.實(shí)驗(yàn)結(jié)果與理論分析相符.
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