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標簽 > 光刻工藝
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傳統的光刻工藝是相對目前已經或尚未應用于集成電路產業的先進光刻工藝而言的,普遍認為 193nm 波長的 ArF 深紫外光刻工藝是分水嶺(見下表)。這是因...
半導體產業中,制造工工程被稱為工藝(Process),理由是什么?雖然沒有明確的答案,但與其說加工尺寸微?。壳笆莕m制程),不如說制造過程無法用肉眼看到所致。
該工序使用涂膠裝置(涂膠機)。為了去除光刻膠中含有的溶劑,在70 ~ 90°C的溫度下進行前烘(Pre -Bake)。在曝光裝置上“繪制”掩膜圖形。接下...
2022-12-09 標簽:光刻工藝 8678 0
如今,光刻技術已成為一項容錯率極低的大產業。全球領先的荷蘭公司 ASML 也是歐洲市值最大的科技公司。它的光刻工具依賴于世界上最平坦的鏡子、最強大的商用...
據了解,無錫埃瑞微半導體設備有限責任公司以集成電路的全會工程正在專心研發制造量測量設備,為光刻工藝的大量生產誤差為代表的夾注測量設備和其他缺陷正在致力提...
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