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光刻技術(shù)

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隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個(gè)數(shù)量級(jí)（從毫米級(jí)到亞微米級(jí)），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù)；使用波長(zhǎng)已從4000埃擴(kuò)展到 0.1埃數(shù)量級(jí)范圍。光刻技術(shù)成為一種精密的微細(xì)加工技術(shù)。

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光刻技術(shù)技術(shù)

光罩(Mask)的系統(tǒng)性講解

? ? ? 本文介紹了什么是光罩（Mask）。光罩（Mask），也稱為掩膜版，是集成電路（IC）制造過程中核心且關(guān)鍵的元件之一。作為光刻技術(shù)的核心工具...

2024-12-06 標(biāo)簽：集成電路光刻技術(shù)mask 260 0

用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)介紹

? 本文介紹了用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)。芯片制造：光刻技術(shù)的演進(jìn) 過去半個(gè)多世紀(jì)，摩爾定律一直推動(dòng)著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，但當(dāng)光刻機(jī)的光源波長(zhǎng)...

2024-11-24 標(biāo)簽：芯片制造光刻機(jī)光刻技術(shù) 436 0

一文解讀光刻膠的原理、應(yīng)用及市場(chǎng)前景展望

光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán)，而光刻膠，又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展，對(duì)微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強(qiáng)，光刻膠的需求...

2024-11-11 標(biāo)簽：集成電路光刻技術(shù)光刻膠 414 0

電子束光刻技術(shù)實(shí)現(xiàn)對(duì)納米結(jié)構(gòu)特征的精細(xì)控制

電子束光刻技術(shù)使得對(duì)構(gòu)成多種納米技術(shù)基礎(chǔ)的納米結(jié)構(gòu)特征實(shí)現(xiàn)精細(xì)控制成為可能。納米結(jié)構(gòu)制造與測(cè)量的研究人員致力于提升納米尺度下的光刻精度，并開發(fā)了涵蓋從光...

2024-10-18 標(biāo)簽：納米電子束光刻技術(shù) 293 0

光刻工藝中分辨率增強(qiáng)技術(shù)詳解

分辨率增強(qiáng)及技術(shù)(Resolution Enhancement Technique, RET)實(shí)際上就是根據(jù)已有的掩膜版設(shè)計(jì)圖形，通過模擬計(jì)算確定最佳光...

2024-10-18 標(biāo)簽：晶圓分辨率光刻技術(shù) 507 0

光刻工藝的基本知識(shí)

在萬物互聯(lián)，AI革命興起的今天，半導(dǎo)體芯片已成為推動(dòng)現(xiàn)代社會(huì)進(jìn)步的心臟。而光刻(Lithography)技術(shù)，作為先進(jìn)制造中最為精細(xì)和關(guān)鍵的工藝，不管是...

2024-08-26 標(biāo)簽：芯片半導(dǎo)體光刻技術(shù) 798 0

ASML光刻小講堂電子束量測(cè)中的透視眼電壓襯度檢測(cè)

那這個(gè)電壓差異如何變成可以甄別的表面圖像明顯的明暗變化呢？大家應(yīng)該都知道電子被正電壓吸引，被負(fù)電壓排斥。如下圖所示，這兩塊地方因?yàn)榻饘倩ミB的差異產(chǎn)生了不...

2024-06-23 標(biāo)簽：電子束光刻技術(shù)ASML 1958 0

光刻工藝流程示意圖：半導(dǎo)體制造的核心環(huán)節(jié)

光刻材料一般特指光刻膠，又稱為光刻抗蝕劑，是光刻技術(shù)中的最關(guān)鍵的功能材料。這類材料具有光（包括可見光、紫外光、電子束等）反應(yīng)特性，經(jīng)過光化學(xué)反應(yīng)后，其溶...

2024-03-31 標(biāo)簽：集成電路光刻技術(shù)半導(dǎo)體制造 2568 0

集成電路芯片制造工藝全流程

一般來說SiO2是作為大部分器件結(jié)構(gòu)中的絕緣體或在器件制作過程中作為擴(kuò)散或離子注入的阻擋層。

2024-03-11 標(biāo)簽：集成電路芯片制造光刻技術(shù) 4256 0

光刻機(jī)精密碳化硅陶瓷部件揭秘

集成電路制造關(guān)鍵裝備要求零部件材料具有高純度、高致密度、高強(qiáng)度、高彈性模量、高導(dǎo)熱系數(shù)和低熱膨脹系數(shù)等特點(diǎn)，且且結(jié)構(gòu)件要具有極高的尺寸精度和結(jié)構(gòu)復(fù)雜性，...

2024-03-07 標(biāo)簽：集成電路光刻機(jī)光刻技術(shù) 951 0

光刻技術(shù)帖子

Prolith和HyperLith?主要用于mask-in-stepper lithography仿真、光刻設(shè)計(jì)

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Prolith和HyperLith的優(yōu)劣勢(shì)

標(biāo)簽：光刻技術(shù) 1131 0

關(guān)于高密度布線技術(shù)有什么要求？

標(biāo)簽：布線過孔光刻技術(shù) 1842 1

193 nm ArF浸沒式光刻技術(shù)和EUV光刻技術(shù)

標(biāo)簽：光刻技術(shù) 3938 2

光刻技術(shù)原理及應(yīng)用

標(biāo)簽：光刻技術(shù) 9978 5

光刻技術(shù)資料下載

集成電路加工光致抗蝕劑概念與光刻技術(shù)的介紹立即下載

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物理接觸式光刻技術(shù)和以Photons為光源的光刻技術(shù)介紹立即下載

類別：顯示及光電 2017-09-29 標(biāo)簽：光刻技術(shù) 758 0

光刻技術(shù)的發(fā)展與應(yīng)用立即下載

類別：IC中文資料 2013-12-10 標(biāo)簽：光刻技術(shù) 523 0

摩爾定律全靠它_CPU光刻技術(shù)分析與展望立即下載

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半導(dǎo)體光刻技術(shù)及設(shè)備的發(fā)展趨勢(shì)立即下載

類別：半導(dǎo)體技術(shù)論文 2011-10-31 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻技術(shù) 1036 0

光刻技術(shù)資訊

7納米工藝面臨的各種挑戰(zhàn)與解決方案

本文介紹了7納米工藝面臨的各種挑戰(zhàn)與解決方案。一、什么是7納米工藝？在談?wù)?納米工藝之前，我們先了解一下“納米”是什么意思。納米（nm）是一個(gè)長(zhǎng)度單...

2024-12-17 標(biāo)簽：工藝光刻技術(shù)7納米 268 0

最新CMOS技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)

隨著科技的飛速發(fā)展，CMOS技術(shù)也在不斷進(jìn)步，以滿足日益增長(zhǎng)的性能需求。從最初的簡(jiǎn)單邏輯門到現(xiàn)在的復(fù)雜集成電路，CMOS技術(shù)已經(jīng)成為推動(dòng)數(shù)字革命的關(guān)鍵力...

2024-11-14 標(biāo)簽：集成電路制程技術(shù)光刻技術(shù) 412 0

美投資8.25億美元建設(shè)NSTC關(guān)鍵設(shè)施,重點(diǎn)發(fā)展EUV光刻技術(shù)

拜登政府已宣布一項(xiàng)重大投資決策，計(jì)劃在紐約州的奧爾巴尼市投入8.25億美元，用于建設(shè)國家半導(dǎo)體技術(shù)中心（NSTC）的核心設(shè)施。據(jù)美國商務(wù)部透露，奧爾巴尼...

2024-11-01 標(biāo)簽：光刻技術(shù)EUV ASML 356 0

日本大學(xué)研發(fā)出新極紫外(EUV)光刻技術(shù)

近日，日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)院大學(xué)（OIST）發(fā)布了一項(xiàng)重大研究報(bào)告，宣布該校成功研發(fā)出一種突破性的極紫外（EUV）光刻技術(shù)。這一創(chuàng)新技術(shù)超越了當(dāng)前半導(dǎo)體...

2024-08-03 標(biāo)簽：光刻技術(shù)EUV 984 0

拯救摩爾定律的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)

來源： ASML阿斯麥光刻人類每天都在推動(dòng)技術(shù)進(jìn)步，不斷拓展可到達(dá)的技術(shù)邊界，而這些新科技的實(shí)現(xiàn)背后離不開芯片技術(shù)的支持。如今風(fēng)靡全世界的人工智能、數(shù)...

2024-07-11 標(biāo)簽：摩爾定律光刻技術(shù) 468 0

阿斯麥和IMEC聯(lián)合光刻實(shí)驗(yàn)室啟用

近日，比利時(shí)微電子研究中心（IMEC）與全球光刻技術(shù)領(lǐng)軍企業(yè)阿斯麥（ASML）共同宣布，在荷蘭費(fèi)爾德霍芬正式啟用聯(lián)合High-NA EUV光刻實(shí)驗(yàn)室。

2024-06-06 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻技術(shù)ASML 655 0

臺(tái)積電轉(zhuǎn)變態(tài)度？秘密訪問ASML總部引發(fā)行業(yè)關(guān)注

宿敵英特爾則積極投身于新興高數(shù)值孔徑超紫外光刻領(lǐng)域，已有數(shù)臺(tái)設(shè)備投入其芯片制造部門使用。據(jù)透露，英特爾正計(jì)劃在即將推出的18A（1.8納米）工藝節(jié)點(diǎn)中試...

2024-05-28 標(biāo)簽：英特爾臺(tái)積電光刻技術(shù) 689 0

三星電子有望在美國獲得超過 60 億美元的補(bǔ)貼

　據(jù)彭博社3月15日?qǐng)?bào)道，三星電子有望從美國政府獲得逾60億美元的《CHIP》法案補(bǔ)貼。該公司目前正在美國得克薩斯州新建一座工廠，此前計(jì)劃于今年7月開始...

2024-03-15 標(biāo)簽：三星電子納米制程光刻技術(shù) 850 0

納米壓印光刻技術(shù)應(yīng)用在即，能否掀起芯片制造革命？

電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/李寧遠(yuǎn)）提及芯片制造，首先想到的自然是光刻機(jī)和光刻技術(shù)。而眾所周知，EUV光刻機(jī)產(chǎn)能有限而且成本高昂，業(yè)界一直都在探索不完全依賴于...

2024-03-09 標(biāo)簽：光刻技術(shù) 4151 0

美光科技: 納米印刷助降DRAM成本

近期的演示會(huì)上，美光詳細(xì)闡述了其針對(duì)納米印刷與DRAM制造之間的具體工作模式。他們提出，DRAM工藝的每一個(gè)節(jié)點(diǎn)以及浸入式光刻的精度要求使得物理流程變得...

2024-03-05 標(biāo)簽：DRAM 美光光刻技術(shù) 710 0

光刻技術(shù)數(shù)據(jù)手冊(cè)

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　　手機(jī)拆解過程，展示手機(jī)內(nèi)部零件及結(jié)構(gòu)。一輛報(bào)廢汽車的廢電瓶、廢油液進(jìn)行無害化處理，再拆解出可以利用的零部件后，整個(gè)車架被送進(jìn)一個(gè)巨大的破碎“神器”內(nèi)，瞬間進(jìn)行拆解破碎。
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3D打印（3DP）即快速成型技術(shù)的一種，它是一種以數(shù)字模型文件為基礎(chǔ)，運(yùn)用粉末狀金屬或塑料等可粘合材料，通過逐層打印的方式來構(gòu)造物體的技術(shù)。
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OGS觸摸屏是在保護(hù)玻璃上直接形成ITO導(dǎo)電膜及傳感器的一種技術(shù)下制作的電子產(chǎn)品保護(hù)屏。一塊玻璃同時(shí)起到保護(hù)玻璃和觸摸傳感器的雙重作用。
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EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了，EUV已經(jīng)遇到了一些延遲，將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段，本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī)，EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用，EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場(chǎng)問題，國產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。
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寒武紀(jì)是目前國際上少數(shù)幾家全面系統(tǒng)掌握了通用型智能芯片及其基礎(chǔ)系統(tǒng)軟件研發(fā)和產(chǎn)品化核心技術(shù)的企業(yè)之一，能提供云邊端一體、軟硬件協(xié)同、訓(xùn)練推理融合、具備統(tǒng)一生態(tài)的系列化智能芯片產(chǎn)品和平臺(tái)化基礎(chǔ)系統(tǒng)軟件。
半導(dǎo)體芯片

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半導(dǎo)體芯片：在半導(dǎo)體片材上進(jìn)行浸蝕，布線，制成的能實(shí)現(xiàn)某種功能的半導(dǎo)體器件。不只是硅芯片，常見的還包括砷化鎵（砷化鎵有毒，所以一些劣質(zhì)電路板不要好奇分解它），鍺等半導(dǎo)體材料。半導(dǎo)體也像汽車有潮流。二十世紀(jì)七十年代，因特爾等美國企業(yè)在動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存（D-RAM）市場(chǎng)占上風(fēng)。
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德國易能森有限公司(EnOcean GmbH)是無線能量采集技術(shù)的開創(chuàng)者。2012年3月，國際電工技術(shù)委員會(huì)將EnOcean無線通信標(biāo)準(zhǔn)采納為國際標(biāo)準(zhǔn)“ISO/IEC 14543-3-10”，這也是世界上唯一使用能量采集技術(shù)的無線國際標(biāo)準(zhǔn)。
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Heilind為電子行業(yè)各細(xì)分市場(chǎng)的原始設(shè)備制造商和合約制造商提供支持，供應(yīng)來自業(yè)界頂尖制造商的產(chǎn)品，涵蓋25個(gè)不同元器件類別，并特別專注于互連與機(jī)電產(chǎn)品。其主要分銷產(chǎn)品包括互連器件、繼電器、風(fēng)扇、開關(guān)和傳感器、電路保護(hù)與熱管理、套管和線束產(chǎn)品、晶體與振蕩器。
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醫(yī)用機(jī)器人，是指用于醫(yī)院、診所的醫(yī)療或輔助醫(yī)療的機(jī)器人。是一種智能型服務(wù)機(jī)器人，它能獨(dú)自編制操作計(jì)劃，依據(jù)實(shí)際情況確定動(dòng)作程序，然后把動(dòng)作變?yōu)椴僮鳈C(jī)構(gòu)的運(yùn)動(dòng)。
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瑞芯微電子有限公司（Fuzhou Rockchips Electronics CO., Ltd）主要致力于數(shù)字音視頻和廣播領(lǐng)域，為消費(fèi)品生產(chǎn)廠家提供從芯片到系統(tǒng)SoC軟件的整體解決方案。主要產(chǎn)品線包括：數(shù)字音視頻處理芯片、語言復(fù)讀機(jī)主控芯片以及數(shù)字電調(diào)諧收音機(jī)控制芯片。
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RISC-V是一個(gè)基于精簡(jiǎn)指令集（RISC）原則的開源指令集架構(gòu)（ISA），重點(diǎn)在于它是開源的，這是與另外兩個(gè)主流架構(gòu)英特爾的 X86和軟銀的Arm最大區(qū)別。
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柔性顯示是使用了PHOLED磷光性O(shè)LED技術(shù)，這種技術(shù)的特點(diǎn)是，低功耗，體積小，直接可視柔性。
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梁孟松

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梁孟松他是加州大學(xué)柏克萊分校電機(jī)博士，畢業(yè)后曾在美國處理器大廠AMD工作幾年，在四十歲那年加入臺(tái)積電，后來到三星，現(xiàn)在為中芯國際執(zhí)行長(zhǎng)。
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紫光展銳是我國集成電路設(shè)計(jì)產(chǎn)業(yè)的龍頭企業(yè)，以生態(tài)為核心戰(zhàn)略，高舉5G和AI兩面技術(shù)旗幟，以價(jià)值、未來、服務(wù)為三個(gè)指向，為個(gè)人與社會(huì)的智能化服務(wù)。
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北京時(shí)間2017年2月26日，華為終端在巴塞羅那世界移動(dòng)通信大會(huì)2017（MWC）上發(fā)布發(fā)布了全新華為P系列智能手機(jī)——華為P10 & P10 Plus.
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MACOM是一家高性能模擬射頻、微波、毫米波和光電解決方案的領(lǐng)先供應(yīng)商，總部位于美國馬薩諸塞州洛厄爾，擁有超過60年的歷史。總部設(shè)在美國洛厄爾，馬薩諸塞州。
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上海安路信息科技有限公司成立于2011年，總部位于浦東新區(qū)張江高科技園區(qū)。安路科技專注于為客戶提供高性價(jià)比的可編程邏輯器件（FPGA）、可編程系統(tǒng)級(jí)芯片（SOC）、定制化可編程芯片、及相關(guān)軟件設(shè)計(jì)工具和創(chuàng)新系統(tǒng)解決方案。
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驍龍835（一般指高通驍龍?zhí)幚砥鳎┦且豢钣?017年初由高通廠商研發(fā)的支持Quick Charge 4.0快速充電技術(shù)的手機(jī)處理器。
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