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標(biāo)簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個主要工藝。是對半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）進(jìn)行開孔，以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴(kuò)散的一種加工技術(shù)。
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光刻技術(shù)，顧名思義就是一種用光刻印的技術(shù)，它廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造行業(yè)以及許多其他納米技術(shù)應(yīng)用中；
臺積電宣布了有關(guān)極紫外光刻(EUV)技術(shù)的兩項重磅突破
今年4月開始，臺積電第一代7nm工藝(CLN7FF/N7)投入量產(chǎn)，蘋果A12、華為麒麟980、高通“驍龍855”、AMD下代銳龍/霄龍等處理器都正在或...
全球首臺！蘇大維格光刻設(shè)備投入運行；臺積電上半年專利申請數(shù)量375件奪冠…
7月28日，中國臺灣地區(qū)有關(guān)單位公布統(tǒng)計指出，受到疫情影響，今年上半年中國臺灣地區(qū)專利申請件數(shù)為33,954件，與去年同期相比下降4%；發(fā)明專利申請人中...
最近光博會上看到一本關(guān)于光刻的小冊子，里面有一點內(nèi)容，分享給大家。 關(guān)于光刻的原理、光刻設(shè)備、光刻膠的種類和選擇等。 開篇 光刻的原理 表面處理：一般的...
在國際半導(dǎo)體領(lǐng)域，我國雖已成為半導(dǎo)體生產(chǎn)大國，但整個半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈仍比較落后。特別是由于國內(nèi)光刻膠廠布局較晚，半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)相較于海外先進(jìn)技術(shù)差距較大，...
2020-03-06 標(biāo)簽：光刻 4454 0
不使用EUV突破1nm極限？美國推出全新光刻系統(tǒng)，分辨率0.768nm！
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/梁浩斌）最近，一家名為Zyvex Labs的美國公司宣布推出亞納米分辨率的光刻系統(tǒng)Zyvex Litho 1，據(jù)稱分辨率可以達(dá)到0...
2021年，半導(dǎo)體制造所需的光刻膠市場規(guī)模將同比增長11％
按照應(yīng)用領(lǐng)域分類，光刻膠主要包括印制電路板（PCB）光刻膠專用化學(xué)品（光引發(fā)劑和樹脂）、液晶顯示器（LCD）光刻膠光引發(fā)劑、半導(dǎo)體光刻膠光引發(fā)劑和其他用...
世界領(lǐng)先半導(dǎo)體廠商臺積電首席技術(shù)官兼研發(fā)副總裁孫元成透露了未來臺積電主導(dǎo)“系統(tǒng)超級芯片”市場的詳細(xì)計劃。
荷蘭的芯片機(jī)制造是世界有名的，其中的ASML就是世界領(lǐng)先的佼佼者，但是，上周有消息傳出，其荷蘭的競爭對手、代
為避免對被處理表面的任何損傷，應(yīng)當(dāng)使用低溫下溫和的化學(xué)方法。超聲波的應(yīng)用也可以增強(qiáng)剝離效能。因為有腐蝕問題、一些已知的剝離液不能作用與鋁等金屬表面；在此...
SK海力士的M16工廠將用上最先進(jìn)的EUV光刻工藝
今年10月份SK Hynix才剛剛建成最新的M15晶圓廠，這是2015年全球最大的存儲芯片工廠M14落成時SK Hynix宣布的46萬億韓元投資計劃中的...
根據(jù)所使用的輻射，有不同類型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、電子束光刻、x射線光刻、光刻和離子束光刻。在光學(xué)光刻技術(shù)中，有部分不透明和部分不透明的圖...
十多年來，半導(dǎo)體制造行業(yè)一方面一直在期待EUV能夠拯救摩爾定律，但另一方面又擔(dān)心該技術(shù)永遠(yuǎn)都不會出現(xiàn)。不過最終，它還是來了，而且不久便將投入使用。
ASML脫胎于飛利浦、成立于1984年，其唯一產(chǎn)品類型就是集成電路制造環(huán)節(jié)中最核心的設(shè)備——光刻機(jī)。光刻機(jī)設(shè)備通過光源將掩模上的電路圖曝光至涂滿光刻膠的...
臺積電 | 首次加入EUV極紫外光刻技術(shù) 7nm+工藝芯片已量產(chǎn)
臺積電官方宣布，已經(jīng)開始批量生產(chǎn)7nm N7+工藝，這是臺積電第一次、也是行業(yè)第一次量產(chǎn)EUV極紫外光刻技術(shù)，意義非凡。
EUV光刻工藝終于商業(yè)化 新一代EUV光刻工藝正在籌備
隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產(chǎn)，2018年EUV光刻工藝終于商業(yè)化了，這是EUV工藝研發(fā)三十年來的一個里程碑。不過EUV工藝要想大規(guī)模量產(chǎn)還有很多...
阿斯麥的地位有多重要？可以這么說，如果它停產(chǎn)，全球半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)將會停擺。
美國泛林宣布與ASML、IMEC合作開發(fā)出新的EUV光刻技術(shù) 成本大幅降低
2月28日，美國泛林公司宣布與ASML阿斯麥、IMEC比利時微電子中心合作開發(fā)了新的EUV光刻技術(shù)，不僅提高了EUV光刻的良率、分辨率及產(chǎn)能，還將光刻膠...
昨夜晚間，寧波南大光電發(fā)表公告稱，公司自主研發(fā)的 ArF 光刻膠產(chǎn)品 近日成功通過客戶的使用認(rèn)證。
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