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標簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔,以便進行雜質(zhì)的定域擴散的一種加工技術。
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應對先進工藝碳排放挑戰(zhàn),Imec開發(fā)晶圓廠可持續(xù)發(fā)展評估模型
隨著技術的發(fā)展,與ic制造相關的排放量也增加了,特別是光刻和蝕刻能耗較大,例如n3工程中光刻工序產(chǎn)生的二氧化碳排放量約占45%。imec的工程師們半導體...
上海光機所成立科研五部,聚焦強激光系統(tǒng)、精密光刻系統(tǒng)等重大需求
邵建達說:科研單位大部門制改革是上海機械適應新時代新要求的必然選擇。他提出了三個要求:第一,各級人民檢察院要以國家需要和人民法院黨組會議精神搶占客戶科技...
據(jù)本文介紹,錫液滴發(fā)生器是激光等離子型極紫外線(lpp-euv)光刻光源中最重要的核心部件之一。錫液滴目標具有高反復頻率,小直徑和穩(wěn)定性好的特性。這篇論...
艾森股份:半導體封裝材料龍頭企業(yè)沖刺科創(chuàng)板
據(jù)上海證券交易所上市審查委員會公告,艾森股票將于8月14日在科創(chuàng)股票市場上市。艾森股份有限公司從事電子化學品的研究,開發(fā),生產(chǎn)和銷售。電子電鍍、光刻2個...
ASML產(chǎn)品路線圖曝光,EUV***出貨已超200臺
euv光刻系統(tǒng)從2014年第一季度到2019年第四季度,nxe:3400c在客戶端使用30 mj/cm2的電力,達到了約140芯片/小時的生產(chǎn)效率。nx...
集成電路與集成電路產(chǎn)業(yè),積體電路與積體電路座業(yè)
集成電路自發(fā)明以來,經(jīng)過20世紀 60年代和70 年代的發(fā)展,逐步形成了集成電路產(chǎn)業(yè)。1965年,仙童公司的戈登 ?摩爾(Cordon E. Moore...
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/周凱揚)在上游的半導體制造產(chǎn)業(yè)中,除了光刻機等設備外,光刻膠、掩膜版等材料也是決定晶圓質(zhì)量與良率的關鍵因素。就拿掩膜版來說,這個承...
10.8.5 光刻-電鍍-注塑技術(LIGA)∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
點擊上方藍字關注我們Lithographie-Galvanoformung-Abformung(LIGA)審稿人:北京大學王瑋審稿人:北京大學張興蔡一茂...
中國年度半導體技術盛會——中國國際半導體技術大會(CSTIC)將于2023年6月26-27日在上海國際會議中心舉辦。近百位世界領先的行業(yè)及學術專家匯聚一...
通常,光刻是作為特性良好的模塊的一部分執(zhí)行的,其中包括晶圓表面制備、光刻膠沉積、掩模和晶圓的對準、曝光、顯影和適當?shù)目刮g劑調(diào)節(jié)。光刻工藝步驟需要按順序進...
BOE(京東方)開發(fā)的量子點直接光刻(DP-QLED)工藝,僅需要涂膜、曝光、顯影三步即實現(xiàn)了一種量子點的圖案化;相對于其它光刻圖案化工藝,步驟減少,無...
好消息!國產(chǎn)EDA龍頭,華大九天支持5nm先進工藝,已開始商業(yè)化!
自主、可控、創(chuàng)新、突破 1 前言 大家好,我是硬件花園! 2月13日,華大九天宣布,公司部分數(shù)字工具支持5nm,并且已經(jīng)實現(xiàn)商業(yè)化! 在接受機構調(diào)研時,...
臺積電與半導體設備供應商ASML計劃采用Nvidia的 "cuLitho "軟件庫來簡化芯片生產(chǎn)的一個關鍵部分。
日本限制芯片制造設備出口 中方回應 美國拉上了一些盟友,比如日本,來一起無理打壓我們的半導體發(fā)展,日本計劃限制23種半導體制造設備的出口;對此外交部發(fā)言...
攻克光子芯片制程中光刻、刻蝕、蒸鍍等多項核心工藝 陜西先進光子器件工程創(chuàng)新平臺全面啟用
陜西光電子先導院先進光子器件工程創(chuàng)新平臺3月30日在西安全面啟用。該平臺具備光子芯片制程中的光刻、刻蝕、蒸鍍等多項核心工藝,將為光子產(chǎn)業(yè)項目提供產(chǎn)品研發(fā)...
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