臺積電NIL等下一代光刻專利遙遙領先于三星熱

盡管 EUV 正朝著全面商業化的方向發展，并受到半導體行業的廣泛關注，但半導體生產商對 NIL（納米壓印）和 DSA（引導自組裝）等替代技術的研究和開發...

2023-02-07 標簽：三星電子晶圓光刻 914 0

晶圓上繪制電路光刻工藝的基本步驟

光刻膠經曝光后，其化學性質會發生改變。更準確地說，經曝光后，光刻膠在顯影液中的溶解度發生了變化：曝光后溶解度上升的物質稱作正性（Positive）光刻膠...

2023-01-31 標簽：集成電路晶圓光刻 1896 0

掩膜版行業基本概述

掩膜版（Photomask）又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是微電子制造過程中的圖形轉移工具或母版，是承載圖形設計和工藝技術等知識產權信息的載體。

2023-01-09 標簽：半導體制造業光刻 3225 0

基于富硫聚合物的高靈敏紅外偏振器

與常規紅外材料不同，富硫聚合物可溶解在有機溶劑中，這意味著其可應用于基于溶液的旋涂方法。此外，富硫聚合物擁有的粘滯彈性和動態共價二硫鍵使其可被熱納米壓印...

2023-01-05 標簽：紅外光刻偏振 567 0

使用 3D 納米打印

使用 3D 納米打印

2022-12-28 標簽：3D光刻光刻膠 913 0

芯片晶圓代工和封測工藝流程

晶圓清洗是指通過將晶圓沉浸在不同的清洗藥劑內或通過噴頭將調配好的清洗液藥劑噴射于晶圓表面進行清洗，再通過超純水進行二次清洗，以去除晶圓表面的雜質顆粒和殘...

2022-12-07 標簽：晶圓代工光刻封測 7606 0

廈門云天Fine Pitch光刻工藝突破2um L/S

來源：云天半導體 廈門云天半導體繼九月初812吋 “晶圓級封裝與無源器件生產線”正式通線后，經過團隊的不懈努力， 8英寸晶圓Fine Pitch光刻工藝...

2022-11-30 標簽：光刻 1578 0

宇微光學成功研發計算光刻EDA軟件

劉世元介紹，光刻是芯片制造中最為關鍵的一種工藝，通過光刻成像系統，將設計好的圖形轉移到硅片上。隨著芯片尺寸不斷縮小，硅片上的曝光圖形會產生畸變。

2022-11-28 標簽：eda光刻產業鏈 1059 0

生命科學、醫藥健康和電子科技三大業務協同創新

材料來源：化合物半導體 本刊記者 日前，旗下擁有生命科學、醫藥健康和電子科技三大業務板塊的科技公司默克重磅亮相第五屆中國國際進口博覽會（進博會），并宣布...

2022-11-10 標簽：晶圓光刻 698 0

俄羅斯政府預計2030年開發出28納米制程技術

，俄羅斯政府推出了一項國家計劃，到2030年開發出自己的28納米制程技術，并盡可能利用外國芯片進行逆向工程取得技術，同時也要培養本土人才從事國產芯片的生產工作。

2022-11-08 標簽：光刻7nm 945 0

汽車行業能否跨越半導體“傻瓜的圍墻”？

在本文中，首先論述半導體業界中存在著怎樣的“傻瓜的圍墻”。接下來，由于半導體行業內到處都有壁壘，所以行業內外之間存在著巨大的差異。然后進一步說明汽車與半...

2022-11-07 標簽：半導體光刻 606 0

不使用EUV突破1nm極限？美國推出全新光刻系統，分辨率0.768nm！

電子發燒友網報道（文/梁浩斌）最近，一家名為Zyvex Labs的美國公司宣布推出亞納米分辨率的光刻系統Zyvex Litho 1，據稱分辨率可以達到0...

2022-09-27 標簽：光刻EUV 4417 0