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標(biāo)簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個(gè)主要工藝。是對半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）進(jìn)行開孔，以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴(kuò)散的一種加工技術(shù)。
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重磅：DLP-SLA混合光固化3D打印技術(shù)將商業(yè)化
據(jù)知悉阿姆斯特丹大學(xué)（UVA）已同意將其專利混合立體光刻（SLA）技術(shù)授權(quán)給數(shù)字光處理（DLP）3D打印機(jī)制造商atum3D。這種混合SLA工藝由UVA...
EV集團(tuán)推出針對大容量封裝應(yīng)用的自動(dòng)掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)
微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、納米技術(shù)以及半導(dǎo)體市場晶圓鍵合和光刻設(shè)備領(lǐng)先供應(yīng)商EV集團(tuán)(EVG)今日宣布推出IQ Aligner NT，旨針對大容量先進(jìn)封裝...
什么是光刻？光刻是將掩模上的幾何形狀轉(zhuǎn)移到硅片表面的過程。光刻工藝中涉及的步驟是晶圓清洗；阻擋層的形成；光刻膠應(yīng)用；軟烤；掩模對準(zhǔn)；曝光和顯影；和硬烤。
英特爾欲助力歐洲半導(dǎo)體生產(chǎn)制造份額提升至20%
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）不久之前，英特爾宣布在歐洲開展野心勃勃的擴(kuò)張計(jì)劃，未來十年內(nèi)在歐洲投資800多億歐元，欲助力歐洲的半導(dǎo)體生產(chǎn)制造份額從如今...
圣彼得堡彼得大帝理工大學(xué)（SPbPU）的專家表示，他們已經(jīng)成功開發(fā)了兩套用于生產(chǎn)微電子納米結(jié)構(gòu)的裝置，這將有助于解決俄羅斯在微電子領(lǐng)域的技術(shù)主權(quán)問題。這...
通過臭氧微氣泡進(jìn)行半導(dǎo)體晶圓的光刻膠去除實(shí)驗(yàn)
半導(dǎo)體的清洗在制造工序中也是非常重要的。特別是光刻膠的去除是最困難的，一般使用硫酸和過氧化氫混合的溶液(SPM)等。但是，這些廢液的處理是極其困難的，與...
宇微光學(xué)成功研發(fā)計(jì)算光刻EDA軟件
劉世元介紹，光刻是芯片制造中最為關(guān)鍵的一種工藝，通過光刻成像系統(tǒng)，將設(shè)計(jì)好的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上。隨著芯片尺寸不斷縮小，硅片上的曝光圖形會(huì)產(chǎn)生畸變。
2022-11-28 標(biāo)簽：eda光刻產(chǎn)業(yè)鏈 1060 0
晶圓廠通常使用光刻膠來圖案化抗蝕刻硬掩模，然后依靠硬掩模來保護(hù)晶圓。但是，如果光刻膠太薄，它可能會(huì)在第一個(gè)轉(zhuǎn)移步驟完成之前被侵蝕掉。隨著光刻膠厚度的減小...
本文提出了一種新型的雙層光阻劑方法來減少負(fù)光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑，選擇負(fù)光刻膠作為頂層抗蝕膠。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對浮渣平均數(shù)量...
超臨界二氧化碳處理技術(shù)在光刻技術(shù)中的應(yīng)用
作為半導(dǎo)體器件和MEMS微加工技術(shù)基礎(chǔ)的光刻技術(shù)中，顯影和清洗等濕法工藝是必不可少的。在本稿中，介紹了能夠定量評價(jià)超臨界CO2處理對微細(xì)光刻膠圖案―基板...
集成電路與集成電路產(chǎn)業(yè)，積體電路與積體電路座業(yè)
集成電路自發(fā)明以來，經(jīng)過20世紀(jì) 60年代和70 年代的發(fā)展，逐步形成了集成電路產(chǎn)業(yè)。1965年，仙童公司的戈登 ?摩爾（Cordon E. Moore...
知識(shí)分享---光刻模塊標(biāo)準(zhǔn)步驟
通常，光刻是作為特性良好的模塊的一部分執(zhí)行的，其中包括晶圓表面制備、光刻膠沉積、掩模和晶圓的對準(zhǔn)、曝光、顯影和適當(dāng)?shù)目刮g劑調(diào)節(jié)。光刻工藝步驟需要按順序進(jìn)...
俄羅斯政府預(yù)計(jì)2030年開發(fā)出28納米制程技術(shù)
，俄羅斯政府推出了一項(xiàng)國家計(jì)劃，到2030年開發(fā)出自己的28納米制程技術(shù)，并盡可能利用外國芯片進(jìn)行逆向工程取得技術(shù)，同時(shí)也要培養(yǎng)本土人才從事國產(chǎn)芯片的生產(chǎn)工作。
音圈電機(jī)模組在主流光刻掩模臺(tái)系統(tǒng)中的應(yīng)用
光刻機(jī)是芯片智造的核心設(shè)備之一，也是當(dāng)下尤為復(fù)雜的精密儀器之一。正因?yàn)榇耍商m光刻機(jī)智造商阿斯麥通研制的EUV光刻機(jī)才會(huì)“千金難求”。 很多人都對光刻機(jī)...
臺(tái)積電NIL等下一代光刻專利遙遙領(lǐng)先于三星熱
盡管 EUV 正朝著全面商業(yè)化的方向發(fā)展，并受到半導(dǎo)體行業(yè)的廣泛關(guān)注，但半導(dǎo)體生產(chǎn)商對 NIL（納米壓印）和 DSA（引導(dǎo)自組裝）等替代技術(shù)的研究和開發(fā)...
在半導(dǎo)體制造中，許多芯片工藝步驟采用光刻技術(shù)，用于這些步驟的圖形“底片”稱為掩膜(也稱作“掩模”)，其作用是在硅片上選定的區(qū)域中對一個(gè)不透明的圖形模板遮...
這個(gè)復(fù)合體由兩種設(shè)施組成。第一個(gè)裝置是為“無掩模納米光刻”設(shè)計(jì)的，可以在沒有口罩的情況下將圖像投射到基板上。第二種設(shè)備位于第一種設(shè)備制造的基板圖案上，利...
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