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標簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔,以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。
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由于擔心新型冠狀病毒疫情帶來的不確定性,三星和臺積電的半導體設備供應商ASML宣布撤回2020年第二季度的業績預期。不過,這家生產極紫外線(EUV)光刻...
在國際半導體領域,我國雖已成為半導體生產大國,但整個半導體產業鏈仍比較落后。特別是由于國內光刻膠廠布局較晚,半導體光刻膠技術相較于海外先進技術差距較大,...
2020-03-06 標簽:光刻 4453 0
美國泛林宣布與ASML、IMEC合作開發出新的EUV光刻技術 成本大幅降低
2月28日,美國泛林公司宣布與ASML阿斯麥、IMEC比利時微電子中心合作開發了新的EUV光刻技術,不僅提高了EUV光刻的良率、分辨率及產能,還將光刻膠...
經常聽說,高端光刻機不僅昂貴而且還都是國外的,那么什么是光刻機呢?上篇我們聊了從原材料到拋光晶片的制成過程,今天我們就來聊聊什么是光刻~
2020-01-19 標簽:光刻 8639 0
經常聽說,高端光刻機不僅昂貴而且還都是國外的,那么什么是光刻機呢?上篇我們聊了從原材料到拋光晶片的制成過程,今天我們就來聊聊什么是光刻~
10月7日,臺積電宣布,其業界首款可商用的極紫外(EUV)光刻技術七納米plus(N7+)將向客戶交付產品。采用EUV技術的N7+工藝建立在臺積電成功的...
蒸鍍機外加金屬鍍罩的雙重門檻,不僅限制了同業的生產良率,也為其他品牌的手機屏設置了一道分辨率的上限。使其擁有了對其他手機品牌的牽制,最好的案例便是曾經如...
臺積電 | 首次加入EUV極紫外光刻技術 7nm+工藝芯片已量產
臺積電官方宣布,已經開始批量生產7nm N7+工藝,這是臺積電第一次、也是行業第一次量產EUV極紫外光刻技術,意義非凡。
今年10月份SK Hynix才剛剛建成最新的M15晶圓廠,這是2015年全球最大的存儲芯片工廠M14落成時SK Hynix宣布的46萬億韓元投資計劃中的...
隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產,2018年EUV光刻工藝終于商業化了,這是EUV工藝研發三十年來的一個里程碑。不過EUV工藝要想大規模量產還有很多...
今年4月開始,臺積電第一代7nm工藝(CLN7FF/N7)投入量產,蘋果A12、華為麒麟980、高通“驍龍855”、AMD下代銳龍/霄龍等處理器都正在或...
在30多年的半導體制造歷史上,最大的一個挑戰就是跟上1965年摩爾做出的預測,即集成電路中的晶體管數目每兩年翻一番。 為了實現這個目的,IC尺寸越來越大...
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