半導體工藝技術：器件的制造步驟

電信號處理工業始于上個世紀初的真空管，真空管使得收音機、電視機和其他電子產品成為可能。它也是世界上第一臺計算機的大腦。

2024-04-28 標簽：集成電路晶體管芯片制造 455 0

一文讀懂半導體工藝制程的光刻膠

光刻膠按照種類可以分為正性的、負性的。正膠受到紫外光照射的部分在顯影時被去除，負膠受到紫外光曝光的地方在顯影后被留下。

2024-04-24 標簽：光刻膠半導體工藝 2876 0

半導體工藝晶圓片的制備過程

先看一些晶圓的基本信息，和工藝路線。 晶圓主要尺寸有4吋，6吋硅片，目前對8吋，12吋硅片的應用在不斷擴大。這些直徑分別為100mm、150mm、2...

2024-04-15 標簽：芯片制造硅片晶圓制造 1260 0

半導體封裝工藝面臨的挑戰

半導體工藝主要是應用微細加工技術、膜技術，把芯片及其他要素在各個區域中充分連接，如：基板、框架等區域中，有利于引出接線端子，通過可塑性絕緣介質后灌封固定...

2024-03-01 標簽：芯片半導體封裝半導體工藝 817 0

晶圓表面金屬污染：半導體工藝中的隱形威脅

晶圓表面的潔凈度對于后續半導體工藝以及產品合格率會造成一定程度的影響，最常見的主要污染包括金屬、有機物及顆粒狀粒子的殘留，而污染分析的結果可用以反應某一...

2024-02-23 標簽：晶圓半導體工藝 2436 0

詳解硅的晶面及應用

研究人員利用硅(100)、(110)和(111)晶面的不同特性對其進行各向異性濕法腐蝕，從而制備出不同的結構，這是半導體工藝中常用的加工方法。

2024-01-11 標簽：硅片金剛石單晶硅 1.7萬 0

半導體工藝中的蝕刻工藝的選擇性

刻蝕的機制，按發生順序可概分為「反應物接近表面」、「表面氧化」、「表面反應」、「生成物離開表面」等過程。所以整個刻蝕，包含反應物接近、生成物離開的擴散效...

2023-12-11 標簽：集成電路印刷電路蝕刻 1256 0

半導體工藝極限，1nm如何實現？

英特爾則是認為可以使用一種GAA FET的最新形態——堆疊式CFET場效應管架構。這種架構的集成密度進一步提升，將n型和p型MOS元件堆疊在一起，可以堆...

2023-12-02 標簽：英特爾臺積電晶體管 1536 0

淺談芯片制程工序中片內&片間均勻性的定義和計算

均勻性是衡量工藝在晶圓上一致性的一個關鍵指標。比如薄膜沉積工序中薄膜的厚度；刻蝕工序中被刻蝕材料的寬度，角度等等，都可以考慮其均勻性。

2023-11-01 標簽：晶圓光刻半導體工藝 3361 0

晶圓鍵合的種類和應用

晶圓鍵合技術是將兩片不同結構/不同材質的晶圓，通過一定的物理方式結合的技術。晶圓鍵合技術已經大量應用于半導體器件封裝、材料及器件堆疊等多種半導體應用領域。

2023-10-24 標簽：CMOS晶圓半導體器件 1529 0

淺析MEMS工藝的部分關鍵技術

MEMS是Micro Electro Mechanical Systems（微機電系統）的縮寫，具有微小的立體結構（三維結構），是處理各種輸入、輸出信號...

2023-10-18 標簽：mems晶圓芯片制造 430 0

半導體工藝里的濕法化學腐蝕

濕法腐蝕在半導體工藝里面占有很重要的一塊。不懂化學的芯片工程師是做不好芯片工藝的。

2023-08-30 標簽：電阻器單晶硅半導體工藝 3719 0

使用虛擬實驗設計加速半導體工藝發展

虛擬DOE能夠降低硅晶圓測試成本，并成功降低DED鎢填充工藝中的空隙體積

2023-07-10 標簽：半導體工藝泛林集團虛擬實驗設計 435 0

晶圓臨時鍵合及解鍵合工藝技術介紹

InP 材料在力學方面具有軟脆的特性，導致100 mm（4 英寸）InP 晶圓在化合物半導體工藝中有顯著的形變和碎裂的風險；同時，InP 基化合物半導體...

2023-06-27 標簽：半導體晶圓半導體工藝 1.4萬 0

半導體工藝裝備現狀及發展趨勢

第三代半導體設備 第三代半導體設備主要為SiC、GaN材料生長、外延所需的特種設備，如SiC PVT單晶生長爐、CVD外延設備以及GaN HVPE單...

2023-06-03 標簽：探測器分立器件電子制造 1348 0

化學放大型光刻膠的作用原理

感光速度:即光刻膠受光照射發生溶解速度改變所需的最小能量，感光速度越快，單位時間內芯片制造的產出越高，經濟效益越好，另-方面，過快的感光速度會對引起工藝...

2023-05-25 標簽：光刻膠半導體工藝 1053 0

抓出半導體工藝中的魔鬼－晶圓表面金屬污染分析

早先對于晶圓表面金屬的濃度檢測需求為1010atoms/cm2，隨著工藝演進，偵測極限已降至108 atoms/cm2，可以滿足此分析需求的技術以全反射...

2023-05-24 標簽：晶圓反應器半導體工藝 3626 0

半導體工藝設備之單晶爐工藝流程

單晶爐，全自動直拉單晶生長爐，是一種在惰性氣體（氮氣、氦氣為主）環境中，用石墨加熱器將多晶硅等多晶材料熔化，用直拉法生長無錯位單晶的設備。

2023-05-16 標簽：半導體工藝流量控制器單晶爐 7275 0