正性光刻對掩膜版的要求

在正性光刻過程中，掩膜版（Photomask）作為圖形轉移的關鍵工具，其性能直接影響到最終圖形的精確度和質量。以下是正性光刻對掩膜版的主要要求： 圖案準...

2024-12-20 標簽：光刻微流控掩膜 186 0

光刻掩膜和光刻模具的關系

光刻掩膜（也稱為光罩）和模具在微納加工技術中都起著重要的作用，但它們的功能和應用有所不同。 光刻掩膜版 光刻掩膜版是微納加工技術中常用的光刻工藝所使用的...

2024-10-14 標簽：光刻掩膜 266 0

光刻掩膜版制作流程

光刻掩膜版的制作是一個復雜且精密的過程，涉及到多個步驟和技術。以下是小編整理的光刻掩膜版制作流程： 1. 設計與準備 在開始制作光刻掩膜版之前，首先需要...

2024-09-14 標簽：光刻掩膜 663 0

掩膜版與光刻膠的功能和作用

掩膜版與光刻膠在芯片制造過程中扮演著不可或缺的角色，它們的功能和作用各有側重，但共同促進了芯片的精確制造。? 掩膜版?，也稱為光罩、光掩膜或光刻掩膜版，...

2024-09-06 標簽：芯片光刻膠掩膜 741 0

芯片光刻掩膜的保存方法

光刻掩模是光的一種掩蔽模片，其作用有類似于照相的通過它，可以使它“底下“的光劑部分成光，難溶于有機藥品，一部分不感光，易溶于有機藥品，以而制得選擇擴散所...

2024-09-04 標簽：芯片光刻掩膜 280 0

如何成功進行微流控SU-8光刻膠的紫外曝光？

為了成功紫外曝光并且根據所需要的分辨率，光刻膠掩模必須盡可能的靠近SU-8光刻膠放置，不要有任何干擾。如要這樣做，可檢查如下幾件事。 首先，光掩模和晶圓...

2024-08-23 標簽：微流控光刻膠掩膜 327 0

微流控光刻掩膜制作

微流控光刻掩膜的制作過程涉及多個步驟，?包括設計、?制版、?曝光、?顯影、?刻蝕等，?最終形成具有特定圖形結構的掩膜版。? 首先，?設計階段是制作掩膜版...

2024-08-08 標簽：光刻微流控掩膜 304 0

臺灣光罩40nm產品今下半年量產，營收將逐季增長

臺灣光罩股份有限公司在5月27日宣布其40納米制程掩膜產品已獲得客戶認可，預計下半年開始批量生產。此舉將促使其全年掩模產品銷售額持續上升。

2024-05-28 標簽：納米掩膜 1149 0

美國BIS更新出口管制新規，強化半導體出口監管

首先，對EUV掩膜基板追加管制。特別是專供EUV光刻制程之用的掩膜基板現已正式納入出口控制范圍，相關出口皆需遵循嚴格的許可要求。

2024-04-08 標簽：半導體EUV掩膜 676 0

清溢光電在南海丹灶建設高端半導體掩膜版生產基地

　據悉，佛山清溢微電子有限公司就是深圳清溢光電股份有限公司（以下簡稱為“清溢光電”）在佛山設立的分公司。該公司創立于1997年，至2019年已成功上市；...

2024-01-30 標簽：高精度半導體芯片掩膜 1588 0

冠石半導體光掩模版項目在寧波順利封頂

據了解，該項目預計總投資額接近20億元，其中已初步投入16億元，占地約68.8畝，整個建設周期預定60個月，主要致力于45-28nm成熟制程半導體光掩膜...

2024-01-29 標簽：半導體顯示面板掩膜 1372 0

路芯半導體掩膜版生產項目奠基啟動，2025年預計實現量產

根據蘇州工業園區融媒體中心報道，江蘇路芯半導體科技有限公司，由業界頂級企業與金融巨頭聯合創立，主要研發和生產低至28nm，高端至45nm甚至更高節點的掩...

2024-01-24 標簽：集成電路半導體掩膜 1421 0

江蘇路芯半導體建設130nm-28nm制程半導體掩膜版

鑒于掩膜版制作技術難度大，故我國在 130nm 及其以下制程節點對國外進口的依賴程度較深。據蘇州工業園區一網通辦公布的信息，江蘇路芯半導體科技是蘇州路行...

2024-01-19 標簽：半導體產業生產線掩膜 1327 0

國調基金與深創投聯手領投湖南普照，加速集成電路布局

據了解，國調基金看好普照材料的發展前景并承諾此次投資將極大地幫助其擴大產量。普照材料成立于2003年，坐落于長沙國家高新技術產業開發區麓谷，是我國獨家從...

2024-01-16 標簽：基板基金掩膜 672 0

重要材料短缺！半導體公司加價求貨

本次報道指出，光掩膜短缺主要與幾個因素有關：先進制程工藝芯片中，更薄的電路圖案需要更多的光掩膜；DUV工藝相較EUV也需要更多的光掩膜。另外，ChatG...

2023-11-27 標簽：半導體公司掩膜AI芯片 569 0