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浸潤(rùn)式微影技術(shù)強(qiáng)勢(shì)晉級(jí),EUV技術(shù)可有出頭日?
浸潤(rùn)式微影技術(shù)、多重圖形以及高折射率液體,將讓193納米微影設(shè)備走到國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)藍(lán)圖(ITRS)目前的終點(diǎn):8納米。屆時(shí),EUV技術(shù)可有出頭日?
新技術(shù)再突破!英特爾四核芯片離10nm工藝還有多遠(yuǎn)?
電子發(fā)燒友網(wǎng)訊【編譯/David】:據(jù)信,英特爾已經(jīng)通過(guò)最新技術(shù)——浸潤(rùn)式微影技術(shù),半導(dǎo)體工藝再次獲得突破。
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