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標(biāo)簽 > GAA
半導(dǎo)體工藝制程在進(jìn)入32nm以下的節(jié)點(diǎn)后,每一步都?xì)v盡艱辛,傳統(tǒng)的工藝技術(shù)已經(jīng)無(wú)法滿足7nm以下的制程了。好在FinFET之后,又帶來(lái)了全新的GAA工藝;而5nm之后的時(shí)代,全新GAA技術(shù)有望延續(xù)現(xiàn)有半導(dǎo)體技術(shù)路線的壽命。
半導(dǎo)體工藝制程在進(jìn)入32nm以下的節(jié)點(diǎn)后,每一步都?xì)v盡艱辛,傳統(tǒng)的工藝技術(shù)已經(jīng)無(wú)法滿足7nm以下的制程了。好在FinFET之后,又帶來(lái)了全新的GAA工藝;而5nm之后的時(shí)代,全新GAA技術(shù)有望延續(xù)現(xiàn)有半導(dǎo)體技術(shù)路線的壽命。
目前臺(tái)積電、三星、Intel、格芯量產(chǎn)的先進(jìn)工藝普遍是基于FinFET鰭式晶體管的;但是在5nm之后,F(xiàn)inFET幾乎已經(jīng)達(dá)到了物理極限,其不斷拉高的深度和寬度之比(為了避免短溝道效應(yīng),鰭片的寬度應(yīng)該小于柵極長(zhǎng)度的0.7倍),將使得鰭片難以在本身材料內(nèi)部應(yīng)力的作用下維持直立形態(tài)。
業(yè)內(nèi)各大廠商和著名的研究機(jī)構(gòu)都提出了自己的看法。其中一種比較主流的方式被稱(chēng)作Gate-All-Around環(huán)繞式柵極技術(shù),簡(jiǎn)稱(chēng)為GAA橫向晶體管技術(shù),也可以被稱(chēng)為GAAFET。在應(yīng)用了GAA技術(shù)后,業(yè)內(nèi)估計(jì)基本上可以解決3nm乃至以下尺寸的半導(dǎo)體制造問(wèn)題。
GAA,一般指全環(huán)繞柵極晶體管(Gate-All-Around FET)。GAA被廣泛認(rèn)為是鰭式結(jié)構(gòu)(FinFET)的下一代接任者。下面簡(jiǎn)單介紹一下GA...
為了提供更優(yōu)良的靜電完整性,三維(3D)設(shè)計(jì)(如全圍柵(GAA)場(chǎng)電子晶體管(FET ))預(yù)計(jì)將在互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體技術(shù)中被采用。3D MOS架構(gòu)為蝕...
雖然只有12年的歷史,但finFET已經(jīng)走到了盡頭。從3nm開(kāi)始,它們將被環(huán)柵 (GAA)取代,預(yù)計(jì)這將對(duì)芯片的設(shè)計(jì)方式產(chǎn)生重大影響。
泛林集團(tuán)的選擇性刻蝕方法:Argos、Prevos和Selis
微縮(即縮小芯片中的微小器件,如晶體管和存儲(chǔ)單元)從來(lái)都不是容易的事情,但要想讓下一代先進(jìn)邏輯和存儲(chǔ)器件成為現(xiàn)實(shí),就需要在原子級(jí)的尺度上創(chuàng)造新的結(jié)構(gòu)。當(dāng)...
2023-01-31 標(biāo)簽:集成電路存儲(chǔ)器泛林集團(tuán) 650 0
據(jù)韓媒報(bào)道,三星電子設(shè)備解決方案部新任foundry業(yè)務(wù)總裁兼總經(jīng)理韓真晚(Han Jinman),在近期致員工的內(nèi)部信中明確提出了三星代工部門(mén)的發(fā)展策...
2nm突圍,背面供電技術(shù)的首個(gè)戰(zhàn)場(chǎng)
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/周凱揚(yáng))對(duì)于任何試圖將半導(dǎo)體工藝推進(jìn)至埃米級(jí)的晶圓廠而言,GAA和背面供電似乎都成了逃不開(kāi)的兩大技術(shù)。GAA和背面供電在滿足芯片性...
美國(guó)擬對(duì)中國(guó)實(shí)施尖端AI芯片技術(shù)出口限制
6月12日,國(guó)際科技界和商界再次因一則新聞而震動(dòng)。據(jù)國(guó)外權(quán)威媒體報(bào)道,美國(guó)政府正在考慮對(duì)中國(guó)實(shí)施新的出口限制措施,這一措施直指當(dāng)前人工智能(AI)領(lǐng)域的...
美國(guó)或?qū)⑦M(jìn)一步收緊技術(shù)對(duì)華出口
據(jù)百能云芯電.子元器.件商.城了解,美國(guó)政府正考慮深化對(duì)華出口管制措施,旨在阻礙中國(guó)獲取先進(jìn)的全柵場(chǎng)效應(yīng)晶體管(GAA)技術(shù)及高帶寬存儲(chǔ)器(HBM)技術(shù)...
2024-06-12 標(biāo)簽:場(chǎng)效應(yīng)晶體管HBMGAA 243 0
三星電子開(kāi)始量產(chǎn)其首款3nm Gate All Around工藝的片上系統(tǒng)
據(jù)外媒報(bào)道,三星電子已開(kāi)始量產(chǎn)其首款3nm Gate All Around(GAA)工藝的片上系統(tǒng)(SoC),預(yù)計(jì)該芯片預(yù)計(jì)將用于Galaxy S25系列。
Q1半導(dǎo)體設(shè)備廠商財(cái)報(bào),GAA和HBM成為最大增長(zhǎng)點(diǎn)
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/周凱揚(yáng))作為整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)的上游,半導(dǎo)體設(shè)備廠商的財(cái)報(bào)向來(lái)反映了芯片生產(chǎn)制造需求上所發(fā)生的變化。隨著半導(dǎo)體設(shè)備大廠們紛紛公布了今年...
2024-05-02 標(biāo)簽:應(yīng)用材料ASML季度財(cái)報(bào) 3847 0
三星半導(dǎo)體將其“第二代3納米”工藝正式更名為“2納米”!
近期,科技巨頭三星半導(dǎo)體做出了一個(gè)引人注目的決策:將其“第二代3納米”工藝正式更名為“2納米”。
2024-03-06 標(biāo)簽:場(chǎng)效應(yīng)晶體管三星半導(dǎo)體人工智能芯片 1092 0
三星與Arm攜手,運(yùn)用GAA工藝技術(shù)提升下一代Cortex-X CPU性能
三星繼續(xù)推進(jìn)工藝技術(shù)的進(jìn)步,近年來(lái)首次量產(chǎn)了基于2022年GAA技術(shù)的3nm MBCFET ? 。GAA技術(shù)不僅能夠大幅減小設(shè)備尺寸,降低供電電壓,增強(qiáng)...
編輯推薦廠商產(chǎn)品技術(shù)軟件/工具OS/語(yǔ)言教程專(zhuān)題
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