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ArF光刻膠材料是集成電路制造領域的關鍵材料,可用于90nm - 7nm技術節點的集成電路制造工藝,主要應用于高端芯片制造。
ArF光刻膠材料是集成電路制造領域的關鍵材料,可用于90nm - 7nm技術節點的集成電路制造工藝,主要應用于高端芯片制造。ArF光刻膠一直是半導體制程領域性能最可靠、使用最廣泛的光刻光源。
半導體光刻膠根據曝光光源波長不同來分類,分別是紫外全譜(300~450nm)、G 線(436nm)、 I 線(365nm)、深紫外(DUV,包括248nm和193nm)和極紫外(EUV),相對應于各曝光波長的光刻膠也由此而生。通常來說,波長越短,加工分辨率越佳。
目前半導體用光刻膠,主要分為5個種類:g線光刻膠,i線光刻膠,KrF光刻膠,ArF光刻膠和EUV光刻膠。
g線、i線、ArF、KrF等,是光刻膠不同產品類型的名稱,無需對名稱意義做過多深究,只需記住它們的名字,了解它們代表的技術水平就行。
如果每周期可取出多條指令(eg: 超過一條)送到流水線中執行,并使用硬件來對指令進行調度(eg: 靠硬件自身來決定哪些指令可以并行執行)的處理器,就可稱...
A股半導體光刻膠企業營收靚麗!打造光刻膠全產業鏈 博康欲成國產光刻膠的中流砥柱
光刻膠為何要謀求國產替代?中國國產光刻膠企業的市場發展機會和挑戰如何?光刻膠企業發展要具備哪些核心競爭力?在南京半導體大會期間,徐州博康公司董事長傅志偉...
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