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標簽 > 掩模
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光刻圖形質量的主要判據(jù)是圖形成像的對比度,移相掩模方法可使對比度得到改善,從而使得其分辨率比傳統(tǒng)方法改善 40%~100%。移相掩模按不同的分類方法可分...
5月12日,皖江經(jīng)濟帶核心城市合肥的邊界上,御微首臺掩模基板缺陷檢測產品Halo-100正式裝車,準備運輸交付給國內頂尖掩模工廠。
2024-05-15 標簽:玻璃基板掩模軟件系統(tǒng) 844 0
上交所:龍圖光罩將于12月15日科創(chuàng)板首發(fā)上會
龍圖光罩的主要經(jīng)營業(yè)務是半導體掩模版的研究、開發(fā)、生產和銷售,是國內罕見的獨立的第三方半導體掩模版制造企業(yè)。公司是國內半導體特性工程的發(fā)展路線繼續(xù)按照技...
佳能推出納米壓印半導體制造設備 或為中美競爭增添新戰(zhàn)線
據(jù)佳能介紹,傳統(tǒng)的光刻設備將電路圖案投射到涂有防腐劑的晶片上,而新產品就像郵票一樣,在晶片上印上印有電路圖案的掩模來實現(xiàn)這一目標。由于電路圖案的傳遞過程...
來源:海門開發(fā)區(qū) 據(jù)海門開發(fā)區(qū)官微報道,日前,半影光學(南京)有限公司與海門開發(fā)區(qū)簽訂投資協(xié)議,規(guī)劃建設微納光學器件及半導體光掩模生產項目,總投資5億元...
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