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電子發燒友網>光電顯示>佳能光刻機現在是什么水平?佳能如何看待顯示行業寒冬?

佳能光刻機現在是什么水平?佳能如何看待顯示行業寒冬?

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光刻機能干什么_英特爾用的什么光刻機_光刻機在芯片生產有何作用

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音圈電機在光刻機掩模臺系統中的應用

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開發頂級光刻機的困難 頂級光刻機有多難搞?

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擦肩而過的光刻機

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政策助力光刻機行業發展,我國光刻機行業研發進度仍待加快

光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術,把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機是半導體產業中最關鍵設備,光刻工藝決定了半導體線路的線寬,同時也決定了芯片的性能和功耗。
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AMSL宣布:無須美國許可同意可向中國供貨DUV光刻機,但EUV受限

光刻機,在整個芯片生產制造環節,是最最最核心的設備,技術難度極高。在全球光刻機市場,日本的尼康、佳能,和荷蘭的ASML,就占據了市場90%以上份額。而最高級的EUV(極紫外光)技術,則更是只有荷蘭的ASML一家可以掌握。
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一文詳解光刻機技術

最近光刻機十分火,我們經常聽到別人說7納米光刻機、5納米光刻機,但其實嚴格意義上來說并不存在7納米光刻機,5納米光刻機,我為什么會這樣說呢?
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中國芯片制造行業正進入快速發展的新階段

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為何只有荷蘭ASML才能制造頂尖EUV光刻機設備?

只有荷蘭光刻機巨頭ASML能造,對此也有很多網友們感覺到非常疑惑,為何只有荷蘭ASML可以造頂尖EUV光刻機設備呢?像我國的上海微電子、日本的索尼、佳能都造不出來嗎?
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日本佳能正加快搶占高功能半導體市場

日本佳能正通過光刻機加快搶占高功能半導體市場。佳能時隔7年更新了面向小型基板的半導體光刻機,提高了生產效率。在用于純電動汽車(EV)的功率半導體和用于物聯網的傳感器需求有望擴大的背景下,佳能推進支持多種半導體的產品戰略。目標是在三大巨頭壟斷的光刻機市場上確立自主地位。
2021-01-06 10:03:061540

佳能/尼康/阿斯麥三家制造商占據全球超過90%的半導體光刻機市場

日本光學設備制造巨頭佳能(Canon)正計劃靠提升光刻機的生產效率來搶占市場。按照計劃,今年3月份,佳能將時隔7年(自2013年來),面向市場推出新型光刻機“FPA-3030i5a”,這款新品較舊機型的生產效率提升了將近17%。
2021-01-06 15:47:073242

佳能發售新型光刻機“FPA-3030i5a”,搶占高功能半導體市場

光刻機(圖源:日經中文網) 時隔7年,佳能更新了面向小型基板的半導體光刻機,該設備使用波長為365納米的“i線”光源,支持直徑從2英寸(約5厘米)到8英寸(約20厘米)的小型基板,生產效率較以往機型提高了約17%。 就工藝水平而言,佳能的這款新型光
2021-01-06 17:41:067868

佳能即將發售新型光刻機“FPA-3030i5a”

日本的佳能曾經是最大的光刻機制造商之一,后來逐漸衰微。但佳能并沒有放棄光刻機業務。據日經中文網報道,佳能將于2021年3月發售新型光刻機“FPA-3030i5a”,用來搶占高功能半導體市場。
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佳能將推新光刻機,效率提升17%

日本的佳能曾經是最大的光刻機制造商之一,后來逐漸衰微。但佳能并沒有放棄光刻機業務。據日經中文網報道,佳能將于2021年3月發售新型光刻機“FPA-3030i5a”,用來搶占高功能半導體市場。
2021-01-07 11:21:093152

佳能時隔7年更新了面向小型基板的半導體光刻機

FPA-3030i5a步進式光刻機的硬件和軟件已在其前代產品FPA-3030i5步進式光刻機(2012年6月發布)基礎上進行了升級,以幫助降低CoO。FPA-3030i5a繼承了FPA-3030i5的解像力,可以曝光0.35μm3的線寬圖案
2021-01-07 17:04:063492

芯源微:光刻工序涂膠顯影設備成功打破國外廠商壟斷

近日,芯源微披露投資者關系活動記錄表指出,公司前道涂膠顯影機與國際光刻機聯機的技術問題已經攻克并通過驗證,可以與包括ASML、佳能等國際品牌以及國內的上海微電子(SMEE)的光刻機聯機應用。
2021-01-08 13:53:334683

ASML壟斷第五代光刻機EUV光刻機:一臺利潤近6億

光刻機領域一家獨大的荷蘭光刻機巨頭ASML,占據著芯片行業的頂端,畢竟沒有了他們的設備,想要造出先進工藝制程的芯片是沒戲的。 財報披露,ASML2020年全年凈銷售額140億歐元,毛利率為48.6
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解析全球光刻機行業發展情況

根據芯思想研究院(ChipInsights)的數據表明,2020年全球集成電路、面板、LED用光刻機出貨約58臺,較2019年增加3臺。其中集成電路制造用光刻機出貨約410臺;面板、LED用光刻機出貨約170臺。
2021-02-24 16:56:1211120

光刻機原理介紹

光刻機,是現代光學工業之花,是半導體行業中的核心技術。 ? ? ? ?可能有很多人都無法切身理解光刻機的重要地位,光刻機,是制造芯片的機器,要是沒有了光刻機,我們就沒有辦法造出芯片,自然也就
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佳能暖心服務,讓打印更無憂

2021年6月8日至7月8日,佳能(中國)有限公司(以下簡稱“佳能”)剛剛結束了為期一個月的免費清潔保養系列活動。據悉,該活動覆蓋了全國180個城市的近300家佳能維修店,為近兩萬臺企業用戶
2021-07-14 15:27:471442

光刻機的難度在哪里

中國是目前世界上消費芯片最多的國家,每年的芯片進口額已超過了石油的進口額。雖然中國芯片行業也已經取得了小有成就,但在世界上還是處于落后的水平,芯片的落后少不了因為光刻機的原因,那么光刻機的難度究竟在在哪里呢?
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刻蝕機能替代光刻機

刻蝕機不能代替光刻機光刻機的精度和難度的要求都比刻蝕機高出很多,在需要光刻機加工的時候刻蝕機有些不能辦到,并且刻蝕機的精度十分籠統,而光刻機對精度的要求十分細致,所以刻蝕機不能代替光刻機
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光刻膠和光刻機的關系

光刻膠是光刻機研發的重要材料,換句話說光刻機就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕跡,就需要網硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:0011281

光刻機干啥用的

光刻機是芯片制造的核心設備之一。目前有用于生產的光刻機,有用于LED制造領域的光刻機,還有用于封裝的光刻機光刻機是采用類似照片沖印的技術,然后把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0085813

光刻機是干什么用的 光刻機廠商有哪些

光刻機又被稱為掩膜對準曝光機,在芯片生產中用于光刻工藝,而光刻工藝又是生產流程中最關鍵的一步,所以光刻機又是芯片生產中不可缺少的設備,總得來說光刻機是用來制造芯片的。
2022-02-06 07:25:0029436

佳能MX498及佳能E488多功能一體打印機的維修手冊

佳能MX498及佳能E488多功能一體打印機的維修手冊,維修利器
2022-03-14 15:31:539

佳能計劃上半年發售3D半導體光刻機 格科半導體正式搬入光刻機

佳能正在開發用于半導體3D技術的光刻機
2022-04-01 16:36:5911569

佳能新發售KrF半導體光刻機的Grade10升級包

佳能將于2022年8月初發售KrF※1半導體光刻機“FPA-6300ES6a”的“Grade10”產能升級配件包(以下簡稱“Grade10”升級包)。KrF半導體光刻機“FPA-6300ES6a
2022-06-14 09:14:112006

中國光刻機現在多少納米 光刻機的基本原理

眾所周知,光刻機一直處于壟斷地位,在光刻機領域,最有名的就是ASML公司了。
2022-07-04 11:21:15288332

euv光刻機三大核心技術 哪些公司有euv光刻機

中國芯的進步那是有目共睹,我國在光刻機,特別是在EUV光刻機方面,更是不斷尋求填補空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3516742

三星斥資買新一代光刻機 中芯光刻機最新消息

三星電子和ASML就引進今年生產的EUV光刻機和明年推出高數值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機達成采購協議。
2022-07-05 15:26:155634

最先進的光刻機多少nm 中國現在能做幾nm芯片

光刻機是制作芯片并不可少的重要工具,大家都知道,光刻機技術幾乎被荷蘭ASML所壟斷,那么全球最先進的光刻機是多少nm的?中國現在又能夠做出幾nm的芯片呢?
2022-07-06 10:07:15247354

euv光刻機可以干什么 光刻工藝原理

光刻機是芯片制造的核心設備之一。目前世界上最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機
2022-07-06 11:03:077000

euv光刻機目前幾納米 中國5納米光刻機突破了嗎

大家都知道,芯片制造的核心設備之一就是光刻機了。現在,全球最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機,那么euv光刻機目前幾納米呢? 到現在,世界上最先進的光刻機能夠實現5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4242766

euv光刻機是哪個國家的

說到芯片,估計每個人都知道它是什么,但說到光刻,許多人可能不知道它是什么。光刻機是制造芯片的機器和設備。沒有光刻機的話,就無法生產芯片,因此每個人都知道光刻機對芯片制造業的重要性。那么euv光刻機
2022-07-10 11:42:276977

euv光刻機是干什么的

光刻機是大規模集成電路生產的核心設備,它能夠制造和維護需要高水平的光學和電子產業基礎,全球只有少數制造商掌握了這一基礎。 光刻機的作用是對芯片晶圓進行掃描曝光,對集成電路進行蝕刻。精度更高的光刻機
2022-07-10 14:35:066173

duv光刻機和euv光刻機區別是什么

光刻機和euv光刻機區別是是什么呢? duv光刻機和euv光刻機區別 1.基本上duv只能做到25nm,而euv能夠做到10nm以下晶圓的生產。 2. duv主要使用的是光的折射原理,而euv使用的光的反射原理,內部必須是真空操作。 以上就是duv光刻機和euv光刻機區別了,現在基本都是euv光刻機
2022-07-10 14:53:1078127

euv光刻機原理是什么

euv光刻機原理是什么 芯片生產的工具就是紫外光刻機,是大規模集成電路生產的核心設備,對芯片技術有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產。那么euv光刻機原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:1015099

euv光刻機用途是什么

等多項先進技術。 是半導體行業技術含量最高的設備。 光刻機在芯片制作中扮演著很重要的角色。在加工芯片的時候,光刻機會通過光源能量、形狀控制手段,讓光束透射過畫著線路圖的掩膜,能夠把線路圖縮小然后映射在硅片上,最后用化
2022-07-10 16:34:403116

佳能發售半導體光刻機解決方案Lithography Plus

來源:佳能集團 通過技術與數據優勢,提升光刻機的生產效率 佳能將于2022年9月5日起發售解決方案平臺“Lithography Plus1”服務(以下簡稱“Lithography Plus”),該系
2022-09-06 17:01:491195

除ASML之外的光刻機廠商們近況如何?

廠商尼康和佳能為例,他們就仍在堅持開發并擴展自己的光刻機業務。 尼康 尼康的光刻機產品陣容比較全面,包括ArF浸沒式掃描光刻機、ArF步進掃描光刻機、KrF掃描光刻機、i線步進式光刻機和FPD面板光刻機,基本涵蓋了除EUV以外的主流光刻機
2022-11-24 07:10:033222

佳能發售面向后道工藝的3D技術i線半導體光刻機新產品

來源:佳能 通過100X100mm超大視場曝光 實現大型高密度布線封裝的量產 ? 佳能將于2023年1月上旬發售面向后道工藝的半導體光刻機新產品——i線※1步進式光刻機“FPA-5520iV LF2
2022-12-08 17:48:46982

同時實現大視場與高解像力曝光 佳能發布半導體***新品

來源:佳能 佳能于3月13日發售面向前道工序的半導體光刻機新產品----i線※1步進式光刻機“FPA-5550iX”,該產品能夠同時實現0.5μm(微米※2)高解像力與50×50mm大視場曝光
2023-03-14 17:25:02599

日本佳能發布新型***

來源:中國半導體論壇 編輯:感知芯視界 Link 10月13日消息,日本佳能宣布推出新型光刻設備:FPA-1200NZ2C納米壓印半導體制造設備! 受此消息影響,納米壓印概念股午后走高,匯創達午后
2023-10-17 11:07:23230

可繞過EUV量產5nm!佳能CEO:納米壓印設備無法賣到中國!

雖然目前在光刻機市場,還有尼康和佳能這兩大供應商,但是這兩家廠商的產品主要都是被用于成熟制程芯片的制造,全球市場份額僅有10%左右,ASML一家占據了90%的市場份額,并壟斷了尖端的EUV光刻機的供應。
2023-11-23 16:14:45486

佳能預計到2024年出貨納米壓印光刻機

來源:DIGITIMES ASIA 佳能預計其納米壓印光刻機將于今年出貨,與ASML的EVU設備競爭市場,因為世界各地的經濟體都熱衷于擴大其本土芯片產能。 佳能董事長兼首席執行官Hiroaki
2024-02-01 15:42:05270

納米壓印光刻技術應用在即,能否掀起芯片制造革命?

壓印光刻技術NIL在這條賽道上備受關注,是最有機會率先應用落地的技術路線。 ? 今年早些時候,根據英國金融時報的報道,負責監督新型光刻機開發的佳能高管武石洋明在接受采訪時稱,采用納米壓印技術的佳能光刻設備FPA-1200NZ2C目標最快在
2024-03-09 00:15:002918

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