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淺談Si MOSFET和Egan FET作為“體二極管”的異同

2018年10月07日 15:54 網(wǎng)絡(luò)整理 作者:工程師譚軍 用戶評論(0
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  一種將交流電能轉(zhuǎn)變?yōu)橹绷麟娔艿?a target="_blank">半導(dǎo)體器件。通常它包含一個(gè)PN結(jié),有正極和負(fù)極兩個(gè)端子二極管最重要的特性就是單方向?qū)щ娦?。在電路中?a href="http://www.1cnz.cn/tags/電流/" target="_blank">電流只能從二極管的正極流入,負(fù)極流出。
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  整流二極管(rectifier diode)一種用于將交流電轉(zhuǎn)變?yōu)橹绷麟姷陌雽?dǎo)體器件。二極管最重要的特性就是單方向?qū)щ娦?。在電路中,電流只能從二極管的正極流入,負(fù)極流出。通常它包含一個(gè)PN結(jié),有正極和負(fù)極兩個(gè)端子。其結(jié)構(gòu)如圖所示。P區(qū)的載流子是空穴,N區(qū)的載流子是電子,在P區(qū)和N區(qū)間形成一定的位壘。外加電壓使P區(qū)相對N區(qū)為正的電壓時(shí),位壘降低,位壘兩側(cè)附近產(chǎn)生儲存載流子,能通過大電流,具有低的電壓降(典型值為0.7V),稱為正向?qū)顟B(tài)。若加相反的電壓,使位壘增加,可承受高的反向電壓,流過很小的反向電流(稱反向漏電流),稱為反向阻斷狀態(tài)。整流二極管具有明顯的單向?qū)щ娦浴U鞫O管可用半導(dǎo)體鍺或硅等材料制造。硅整流二極管的擊穿電壓高,反向漏電流小,高溫性能良好。通常高壓大功率整流二極管都用高純單晶硅制造(摻雜較多時(shí)容易反向擊穿)。這種器件的結(jié)面積較大,能通過較大電流(可達(dá)上千安),但工作頻率不高,一般在幾十千赫以下。整流二極管主要用于各種低頻半波整流電路,如需達(dá)到全波整流需連成整流橋使用。
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 ?。?)最大平均整流電流IF:指二極管長期工作時(shí)允許通過的最大正向平均電流。該電流由PN結(jié)的結(jié)面積和散熱條件決定。使用時(shí)應(yīng)注意通過二極管的平均電流不能大于此值,并要滿足散熱條件。例如1N4000系列二極管的IF為1A。
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 ?。?)最高反向工作電壓VR:指二極管兩端允許施加的最大反向電壓。若大于此值,則反向電流(IR)劇增,二極管的單向?qū)щ娦员黄茐模瑥亩鸱聪驌舸?。通常取反向擊穿電壓(VB)的一半作為(VR)。例如1N4001的VR為50V,1N4002-1n4006分別為100V、200V、400V、600V和800V,1N4007的VR為1000V
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  (3)最大反向電流IR:它是二極管在最高反向工作電壓下允許流過的反向電流,此參數(shù)反映了二極管單向?qū)щ娦阅艿暮脡?。因此這個(gè)電流值越小,表明二極管質(zhì)量越好。
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  (4)擊穿電壓VB:指二極管反向伏安特性曲線急劇彎曲點(diǎn)的電壓值。反向?yàn)檐浱匦詴r(shí),則指給定反向漏電流條件下的電壓值。
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 ?。?)最高工作頻率fm:它是二極管在正常情況下的最高工作頻率。主要由PN結(jié)的結(jié)電容及擴(kuò)散電容決定,若工作頻率超過fm,則二極管的單向?qū)щ娦阅軐⒉荒芎芎玫伢w現(xiàn)。例如1N4000系列二極管的fm為3kHz。另有快恢復(fù)二極管用于頻率較高的交流電的整流,如開關(guān)電源中。
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 ?。?)反向恢復(fù)時(shí)間trr:指在規(guī)定的負(fù)載、正向電流及最大反向瞬態(tài)電壓下的反向恢復(fù)時(shí)間。
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 ?。?)零偏壓電容CO:指二極管兩端電壓為零時(shí),擴(kuò)散電容及結(jié)電容的容量之和。值得注意的是,由于制造工藝的限制,即使同一型號的二極管其參數(shù)的離散性也很大。手冊中給出的參數(shù)往往是一個(gè)范圍,若測試條件改變,則相應(yīng)的參數(shù)也會發(fā)生變化,例如在25°C時(shí)測得1N5200系列硅塑封整流二極管的IR小于10uA,而在100°C時(shí)IR則變?yōu)樾∮?00uA。
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  損壞原因
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  (1)防雷、過電壓保護(hù)措施不力。整流裝置未設(shè)置防雷、過電壓保護(hù)裝置,即使設(shè)置了防雷、過電壓保護(hù)裝置,但其工作不可靠,因雷擊或過電壓而損壞整流管。
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  (2)運(yùn)行條件惡劣。間接傳動的發(fā)電機(jī)組,因轉(zhuǎn)速之比的計(jì)算不正確或兩皮帶盤直徑之比不符合轉(zhuǎn)速之比的要求,使發(fā)電機(jī)長期處于高轉(zhuǎn)速下運(yùn)行,而整流管也就長期處于較高的電壓下工作,促使整流管加速老化,并被過早地?fù)舸p壞。
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 ?。?)運(yùn)行管理欠佳。值班運(yùn)行人員工作不負(fù)責(zé)任,對外界負(fù)荷的變化(特別是在深夜零點(diǎn)至第二天上午6點(diǎn)之間)不了解,或是當(dāng)外界發(fā)生了甩負(fù)荷故障,運(yùn)行人員沒有及時(shí)進(jìn)行相應(yīng)的操作處理,產(chǎn)生過電壓而將整流管擊穿損壞。
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  (4)設(shè)備安裝或制造質(zhì)量不過關(guān)。由于發(fā)電機(jī)組長期處于較大的振動之中運(yùn)行,使整流管也處于這一振動的外力干擾之下;同時(shí)由于發(fā)電機(jī)組轉(zhuǎn)速時(shí)高時(shí)低,使整流管承受的工作電壓也隨之忽高忽低地變化,這樣便大大地加速了整流管的老化、損壞。
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 ?。?)整流管規(guī)格型號不符。更換新整流管時(shí)錯將工作參數(shù)不符合要求的管子換上或者接線錯誤,造成整流管擊穿損壞。
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 ?。?)整流管安全裕量偏小。整流管的過電壓、過電流安全裕量偏小,使整流管承受不起發(fā)電機(jī)勵磁回路中發(fā)生的過電壓或過電流暫態(tài)過程峰值的襲擊而損壞。

  隨著在DC-DC變換器設(shè)計(jì)中GaN-on-Si變得越來越普遍,經(jīng)驗(yàn)豐富的設(shè)計(jì)人員經(jīng)常會對GaN晶體管作為同步整流器(SRS)的獨(dú)特特性的影響提出疑問。特別是,在硅MOSFET中,第三象限的離態(tài)特性,即所謂的“體二極管”導(dǎo)電特性,在變換器死區(qū)期間被激活,這是值得關(guān)注的。本文將重點(diǎn)研究Si MOSFET和Egan FET作為“體二極管”的異同,并概述它們的優(yōu)缺點(diǎn)。

  圖1.埃根場效應(yīng)管和硅MOSFET的典型源到漏正降與源漏電流和溫度的關(guān)系

  圖1顯示了Egan FET和Si MOSFET的典型數(shù)據(jù)表反向傳導(dǎo)特性。對于Egan場效應(yīng)管,源漏正向電壓是硅MOSFET的三到四倍,但沒有反向恢復(fù)電荷,q。RR。對于Si MOSFET,Qrr是顯著的,盡管它隨著電壓額定值的降低而降低。對于源漏正向電壓,其值對電壓額定值的依賴性很小。

  圖2.帶同步整流器的BUCK變換器原理圖

  圖3.理想化BUCK轉(zhuǎn)換器Q1開啟波形,包括硅MOSFET體二極管的反向恢復(fù)

  反向恢復(fù)的主要影響可以在典型BUCK轉(zhuǎn)換器的上下文中討論,如圖2所示。當(dāng)sr反向電壓降vsd 2相對死區(qū)時(shí)間保持相對一致時(shí),tD,on,這是兩個(gè)q的切換轉(zhuǎn)換之間的間隔。1和Q2被命令離開,反向回收費(fèi)用,qRR,受死區(qū)[1]、[2]的強(qiáng)烈影響。

  在實(shí)際的變換器中,為了防止q的交叉?zhèn)鲗?dǎo),死區(qū)時(shí)間是必要的。1和Q2由于交叉導(dǎo)通后的開關(guān)時(shí)間為非零,造成過通電流和相應(yīng)的高損耗。然而,死區(qū)時(shí)間也會導(dǎo)致?lián)p耗,通過了解其中兩種主要機(jī)制:反向壓降和反向恢復(fù),高效率變換器的設(shè)計(jì)將得到改進(jìn)。

  反向壓降和死區(qū)損失

  有兩個(gè)死期要考慮。開啟死期,tD,on,是時(shí)間q之間的間隔。2響應(yīng)它的關(guān)閉命令和當(dāng)前i的時(shí)間。Q2減少到零。關(guān)閉死期,tD,關(guān)閉,是q時(shí)開始的間隔。1響應(yīng)它的關(guān)閉命令和q的時(shí)間2響應(yīng)它的啟動命令。圖3顯示了關(guān)鍵的打開死區(qū)時(shí)間波形,并且關(guān)閉死區(qū)時(shí)間是相似的。在tD,on和TD,關(guān)閉Q通道2當(dāng)電感電流IL流過MOSFET的體二極管和GaN晶體管的類體二極管機(jī)制[3]時(shí),電感電流被關(guān)閉。

  在硅MOSFET中,該體二極管由漏外延層與源阱之間形成的PN結(jié)組成。該二極管的正向壓降VSD 2為0.6~0.8V。當(dāng)柵和源與V連接在一起時(shí),在Egan場效應(yīng)管中產(chǎn)生有效體二極管。SD2二極管標(biāo)稱電流下的≈2.5-3V.閥體二極管的傳導(dǎo)損耗很容易由方程式1計(jì)算:

  P高級,退伍軍人服務(wù)處=IL·VSD2二極管·FSW·(TD,ON+TD,OFF)(1)

  高VSD2伊根場效應(yīng)晶體管的二極管意味著死區(qū)導(dǎo)通損耗大于硅MOSFET。這可以通過外部肖特基二極管或通過良好的死區(qū)管理[4],[5]。Egan FETs的快速切換與Si MOSFET相比,更小的死區(qū)時(shí)間對于GaN來說是可行的。

  反向回收和間接死區(qū)損失

  反向恢復(fù)是開關(guān)損耗的主要來源,有時(shí)控制著所有其他開關(guān)損耗機(jī)制。然而,由于缺乏良好的數(shù)據(jù)和具有挑戰(zhàn)性的分析,特別是對于低電壓場效應(yīng)晶體管,它常常被低估甚至忽略。隨著功率密度和效率要求的不斷提高,反向恢復(fù)損失值得更密切的檢查。死時(shí)間對反向恢復(fù)有很強(qiáng)的影響[2]。在硅MOSFET中,這會導(dǎo)致比體二極管導(dǎo)電更高的損耗,并且這些損耗可以遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過Egan FETs的體二極管導(dǎo)電損耗[1]。

  反向恢復(fù)是PN結(jié)二極管的一種現(xiàn)象。當(dāng)這樣的二極管傳導(dǎo)電流iD=iL在正向中,向結(jié)耗盡區(qū)注入少數(shù)載流子的種群。該載體種群的最終大小與IL的大小相對應(yīng)。該種群的一部分滯后于ID的變化,時(shí)間常數(shù)依賴于少數(shù)載流子的擴(kuò)散時(shí)間、遷移率和復(fù)合時(shí)間[6]。載流子的這一部分通常被稱為存儲的結(jié)電荷。它常常與電容耗盡電荷混淆,但不同之處在于它主要是二極管電流波形的函數(shù),而不是電壓波形。只要儲存的電荷保持在結(jié)中,無論電流值或方向如何,二極管都可被視為處于導(dǎo)電狀態(tài)。對于Egan場效應(yīng)管,反向?qū)ㄊ腔诖蠖鄶?shù)沒有PN結(jié)的載流子器件,因此它們不顯示反向恢復(fù)。

  反向恢復(fù)發(fā)生時(shí),反向電壓被施加到一個(gè)PN二極管,該二極管正向前方向?qū)щ?。因此,它是在Q的開啟過程中發(fā)生的。1。圖3顯示了典型的打開波形。在開啟死區(qū)開始時(shí),q的通道。2是關(guān)閉的,強(qiáng)制電感電流-iL通過身體二極管。然后q1被打開并開始攜帶越來越多的iL。當(dāng)控制場效應(yīng)管電流達(dá)到i時(shí)l,iQ2=0,理想的二極管將停止導(dǎo)電。然而,在實(shí)際的PN結(jié)二極管中,結(jié)區(qū)存儲的電荷滯后于電流。因此,二極管保持開著,而自q1也是,電壓V公共汽車迫使水流繼續(xù)增加。這個(gè)額外的電流嚴(yán)格地流經(jīng)功率回路,被稱為反向恢復(fù)電流,它作為一個(gè)貫穿電流,并顯著增加損失。當(dāng)電流倒轉(zhuǎn)時(shí),儲存的電荷開始衰減,并最終到達(dá)足以支持i的點(diǎn)。RRM,峰值負(fù)iq 2電流,其后電流幅值隨時(shí)間常數(shù)t呈指數(shù)下降。RR直到我Q2=0,iQ1=iL,二極管也關(guān)了。流動的額外電流會產(chǎn)生額外的電荷,稱為反向恢復(fù)電荷(Q)。RR)流經(jīng)功率回路并由此產(chǎn)生的損失由以下幾個(gè)方面提供:

  P高級,退伍軍人服務(wù)處=qRR·VBUS·FSW(2)

  不幸的是,一個(gè)精確的QRR價(jià)值很難獲得。硅MOSFET數(shù)據(jù)表通常為體二極管Q提供數(shù)字RR和TRR在不現(xiàn)實(shí)的條件下。qRR值可能包括或不包括q。開放源碼軟件,這很少被指定?,F(xiàn)實(shí)條件下反求恢復(fù)參數(shù)的測量具有挑戰(zhàn)性和易出錯性,典型器件模型中反求恢復(fù)的精確建模很少。這導(dǎo)致對反向恢復(fù)損失的估計(jì)很差。

  ENGN FET與Si MOSFET在VIN=48V同步整流中的比較

  現(xiàn)在讓我們來看看死區(qū)時(shí)間對依根場效應(yīng)管(Egan FET)和基于硅MOSFET(硅MOSFET)的SR設(shè)計(jì)的電路性能的影響。我們來看看V在……里面=48 V至V走出=12V同步降壓變換器在f的頻率范圍內(nèi)工作西南=300千赫至f西南=1兆赫。實(shí)驗(yàn)評估板分別如圖4(A)和(B)所示,分別用于Egan FET(EPC 2045)和Si MOSFET等效器件。每個(gè)板的設(shè)計(jì)都是基于[7]的類似布局,使用四層二英寸銅多氯聯(lián)苯,并使用為各自技術(shù)設(shè)計(jì)的柵極驅(qū)動程序。

  為了評估死區(qū)時(shí)間對兩個(gè)系統(tǒng)性能的影響,對每個(gè)測量點(diǎn)的死區(qū)時(shí)間進(jìn)行了調(diào)整,使用空載定時(shí)來保持一致性。由于qrr的影響是在設(shè)備q1打開時(shí)看到的,所以只有上升的邊緣死區(qū),t。死升,GaN晶體管和Si MOSFET的死區(qū)數(shù)分別減少到10 ns和15 ns。

  圖4.v型在……里面=48 V演示系統(tǒng)(A)基于Egan FET的EPC 9078設(shè)計(jì)與EPC 2045 Egan FET和LMG 5113 GaN FET 5 V柵驅(qū)動器和(B)基于Si MOSFET的BSZ097N10NS5 Si MOSFET和ISL 2111 MOSFET 10 V柵驅(qū)動器的設(shè)計(jì)

  最小死時(shí)間情況被用作基線,并從所有其他損失測量中減去。這樣就可以量化死區(qū)效應(yīng)造成的損失。對于更快的Egan場效應(yīng)管,選擇了5 ns的最小死區(qū)時(shí)間,對于速度較慢的Si MOSFET,選擇了10 ns的最小死區(qū)時(shí)間。圖5顯示了死區(qū)時(shí)間內(nèi)“體二極管”傳導(dǎo)持續(xù)時(shí)間對開關(guān)頻率為500 kHz(圖5(A)和1 MHz(圖(5b)的輸出電流6A、10A和14A的性能的影響。隨著死區(qū)時(shí)間的增加,Si MOSFET表現(xiàn)出由于q引起的初始損耗的大幅度增加。RR,從而逼近由于V而產(chǎn)生的常數(shù)斜率的漸近性。SD2,二極管,如預(yù)期。從圖5可以看出,Si MOSFET QRR與二極管的前向偏置時(shí)間和二極管的電流大小有很強(qiáng)的相關(guān)性。對于Si MOSFET,ΔQRR可由方程2和Δq估計(jì)。RR測量結(jié)果為:6A約為40 nC,10A為80 nC,14A為135 nC,體二極管導(dǎo)電時(shí)間增加50 ns。從圖5(B)中可以看出,如方程2所預(yù)測的,死區(qū)時(shí)間損失與頻率成正比。當(dāng)開關(guān)頻率從500 kHz增加到1 MHz時(shí),損耗增加了2倍以上(~2.5)。這表明QRR值(Nc)依賴于f。西南,但在某種程度上比我走出和T死升。在圖5(C)中,頻率范圍更廣,f西南當(dāng)負(fù)載電流為10A時(shí),顯示為300 kHz、500 kHz和1 MHz,證實(shí)Egan FET在較寬的頻率范圍內(nèi)是一個(gè)優(yōu)越的SR。

  圖5.上升邊死區(qū)持續(xù)時(shí)間對不同輸出電流和開關(guān)頻率為(A)f的變換器功率損耗的影響如圖4所示西南=50千赫,(B)f西南=1兆赫;及(C)各種開關(guān)頻率及輸出電流i走出=10 A

  對于無反向恢復(fù)的Egan場效應(yīng)管,損耗與死區(qū)的源漏傳導(dǎo)成正比,正如方程1所預(yù)測的那樣。由于V值越大,Egan場效應(yīng)晶體管損耗曲線的導(dǎo)通斜率越高。SD2,二極管反向傳導(dǎo)。雖然斜率較高,但Si MOSFET反向恢復(fù)的初始高損耗意味著即使在較大的死區(qū),硅MOSFET的反向恢復(fù)損耗也遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過ENGN FET反向電壓降的損失。這表明,在體二極管工作的sr應(yīng)用中,由于q的消除,GaN晶體管優(yōu)于Si mofet。RR.

  死區(qū)時(shí)間對系統(tǒng)效率和功率損耗的影響分別在圖6(A)和(B)中進(jìn)行了測試和顯示?;贓gan FET的設(shè)計(jì)在所有條件下均表現(xiàn)出優(yōu)越的性能,在30 ns和60 ns的上升邊緣死區(qū),系統(tǒng)總損耗分別減少35%和40%,效率分別提高2%和2.5%。改進(jìn)的基于Egan FET的開關(guān)性能使系統(tǒng)在優(yōu)化時(shí)具有更高的功率密度,文[8]對此進(jìn)行了詳細(xì)的討論。

  圖6.上升沿死區(qū)持續(xù)時(shí)間對總系統(tǒng)(A)效率和(B)功率損耗的影響,如圖4所示,f的開關(guān)頻率西南=500 kHz(IHLP-5050-FD-01)

  到目前為止,完全考慮了死區(qū)時(shí)間對功率損耗和效率的影響。然而,第三象限“體二極管”的導(dǎo)通對開關(guān)波形也有很大的影響,影響到器件的最小允許死區(qū)時(shí)間、柵極驅(qū)動器/控制器的最大負(fù)開關(guān)節(jié)點(diǎn)電壓以及器件的峰值電壓額定值等設(shè)計(jì)準(zhǔn)則。如圖7(A)所示,是伊根場效應(yīng)管的開關(guān)節(jié)點(diǎn)波形,用于上升邊緣死區(qū)5 ns,20 ns和40 ns。無反向恢復(fù)的Egan FET具有幾乎相同的開關(guān)過渡和峰值電壓峰值,允許設(shè)計(jì)者更簡單地選擇所需的最低死區(qū)時(shí)間和峰值器件阻塞電壓。對于基于Egan FET的設(shè)計(jì),晶體管還具有較高的第三象限離態(tài)正向電壓,從而產(chǎn)生更多的負(fù)開關(guān)節(jié)點(diǎn),從而影響驅(qū)動器/控制器的選擇。

  對于基于Si MOSFET的設(shè)計(jì),開關(guān)節(jié)點(diǎn)波形如圖7(B)所示,死區(qū)為5 ns,20 ns和40 ns。第三象限體二極管電壓明顯低于Egan場效應(yīng)晶體管,但其躍遷和峰值電壓峰值隨死區(qū)時(shí)間的變化而明顯變化,這是反向恢復(fù)電荷的影響(Q)。RR)電流。電流將產(chǎn)生類似的影響,使設(shè)計(jì)者在盡量減少死區(qū)時(shí)間和選擇合適的設(shè)備電壓等級方面具有更大的挑戰(zhàn)性。

  圖7.上升邊死區(qū)時(shí)間對(A)GaN晶體管和(B)Si MOSFET實(shí)驗(yàn)轉(zhuǎn)換器開關(guān)節(jié)點(diǎn)波形的影響如圖4所示

  結(jié)語

  總結(jié)了在同步整流中有效使用Egan FET的設(shè)計(jì)考慮:1)Egan FET的“體二極管”正向壓降比Si MOSFET高2~3倍,相關(guān)的正激二極管導(dǎo)通損耗相應(yīng)增加;2)Egan FET完全消除反向恢復(fù)Q。RR相關(guān)損失減少到零。

  適用于較高電壓的應(yīng)用(V在……里面=48 V),Q的影響很大。RR對于Si MOSFET的SR損耗,以及Egan FET正向二極管導(dǎo)通損耗的增加與之相比是非常小的,在大多數(shù)應(yīng)用中,ENGN FET作為SRS的性能都要好得多。隨著電壓的增加,ENGN FET的相對優(yōu)勢越大,因?yàn)镾i MOSFET QRR和相關(guān)損耗都隨著電壓的增加而增加。Si MOSFET Q的相關(guān)性RR在導(dǎo)電電流水平上也被證明,更高的電流水平顯示出更大的優(yōu)勢埃根場效應(yīng)。


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