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白光干涉儀檢測單晶硅應(yīng)用
1、硅晶圓的粗糙度檢測
在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中,硅晶圓的制備質(zhì)量直接關(guān)系著晶圓IC芯片的制造質(zhì)量,而硅晶圓的制備,要經(jīng)過十數(shù)道工序,才能將一根硅棒制成一片片光滑如鏡面的拋光硅晶圓,如下圖所示,提取表面一區(qū)域進行掃描成像。
硅晶圓粗糙度測量
上圖中制備好的拋光硅晶圓表面輪廓起伏已在數(shù)納米以內(nèi),其表面粗糙度在0.5nm左右,由于其粗糙度精度已到亞納米量級,而在此量級上,接觸式輪廓儀和一般的非接觸式儀器均無法滿足檢測要求,只有結(jié)合了光學(xué)干涉原理和精密掃描模塊的光學(xué)3D表面輪廓儀才適用。
2、晶圓IC的輪廓檢測
晶圓IC的制造過程可簡單看作是將光罩上的電路圖通過UV蝕刻到鍍膜和感光層后的硅晶圓上這一過程,其中由于光罩中電路結(jié)構(gòu)尺寸極小,任何微小的粘附異物和瑕疵均會導(dǎo)致制造的晶圓IC表面存在缺陷,因此必須對光罩和晶圓IC的表面輪廓進行檢測。下圖是一塊蝕刻后的晶圓IC,使用光學(xué)3D表面輪廓儀對其中一個微結(jié)構(gòu)掃描還原3D圖像,并測量其輪廓尺寸。
晶圓IC減薄后的粗糙度檢測
在硅晶圓的蝕刻完成后,根據(jù)不同的應(yīng)用需求,需要對制備好的晶圓IC的背面進行不同程度的減薄處理,在這個過程中,需要對減薄后的晶圓IC背面的表面粗糙度進行監(jiān)控以滿足后續(xù)的應(yīng)用要求。在減薄工序中,晶圓IC的背面要經(jīng)過粗磨和細磨兩道磨削工序,下圖是粗磨后的晶圓IC背面,選取其中區(qū)域進行成像分析。
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