離子束刻蝕機 20 IBE-J

型號： 20 IBE-J

--- 產品參數 ---

特點干法物理納米級刻蝕
射頻角度可以任意調整

--- 產品詳情 ---

因產品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準
上海伯東日本原裝進口適合大規模量產使用的離子刻蝕機

離子束刻蝕機 IBE 特性:
1. 干法刻蝕, 物理蝕刻, 納米級別的刻蝕精度
2. 射頻角度可以任意調整, 蝕刻可以根據需要做垂直, 斜面等等加工形狀
3. 基板直接加裝在直接冷卻裝置上,可以在低溫環境下蝕刻.
4. 配置公轉自轉傳輸機構 ”Dry Chuck Planet ”, 使得樣品可以得到比較均勻平滑的表面. 刻蝕均勻性 ≤±5%
5. 幾乎滿足所有材料的刻蝕, IBE 可用于反應離子刻蝕 RIE 不能很好刻蝕的材料
6. 配置德國 Pfeiffer 分子泵和旋片泵
7. 機臺設計使用自動化的操作流程, 非常友好的使用生產過程

Hakuto 日本原裝設計制造離子束刻蝕機 IBE (離子蝕刻機) 提供 4英寸, 6英寸, 8英寸干法, 納米級別材料的表面刻蝕, 刻蝕均勻性 ≤±5%. 幾乎滿足所有材料的刻蝕. 例如磁性材料, 黃金 Au, 鉑 Pt, 合金等金屬及復合半導體材料, 廣泛應用于 RF 射頻器件, MEMS 傳感器, 磁性器件 …, 滿足研發和量產需要. IBE 可用于反應離子刻蝕 RIE 不能很好刻蝕的材料.

伯東公司超過 50年的離子刻蝕市場經驗, 擁有龐大的安裝基礎和經過市場驗證的刻蝕技術!

若您需要進一步的了解離子束刻蝕機 IBE 詳細信息,

現部分品牌誠招合作代理商, 有意向者歡迎聯絡上海伯東葉女士
上海伯東版權所有, 翻拷必究！

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