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三菱電機半導體

文章:64 被閱讀:7.8w 粉絲數:10 關注數:0 點贊數:1

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SiC MOSFET的動態特性

本文詳細介紹了SiC MOSFET的動態特性。包括閾值電壓特性、開通和關斷特性以及體二極管的反向恢復....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 03-26 16:52 ?416次閱讀
SiC MOSFET的動態特性

SiC MOSFET的靜態特性

商用的Si MOSFET耐壓普遍不超過900V,而SiC擁有更高的擊穿場強,在結構上可以減少芯片的厚....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 03-12 15:53 ?425次閱讀
SiC MOSFET的靜態特性

SiC SBD的靜態特性和動態特性

SiC SBD具有高耐壓、快恢復速度、低損耗和低漏電流等優點,可降低電力電子系統的損耗并顯著提高效率....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 02-26 15:07 ?421次閱讀
SiC SBD的靜態特性和動態特性

三菱電機高壓SiC模塊封裝技術解析

SiC芯片可以高溫工作,與之對應的連接材料和封裝材料都需要相應的變更。三菱電機高壓SiC模塊支持17....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 02-12 11:26 ?293次閱讀
三菱電機高壓SiC模塊封裝技術解析

三菱電機工業用NX封裝全SiC功率模塊解析

三菱電機開發了工業應用的NX封裝全SiC功率模塊,采用低損耗SiC芯片和優化的內部結構,與現有的Si....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 01-22 10:58 ?2003次閱讀
三菱電機工業用NX封裝全SiC功率模塊解析

三菱電機開始提供工業用第8代IGBT模塊樣品

三菱電機株式會社近日宣布,將于2月15日起開始提供新型工業用LV100封裝1.2kV IGBT模塊樣....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 01-17 09:36 ?282次閱讀

三菱電機超小型全SiC DIPIPM解析

在Si-IGBT的DIPIPM基礎上,三菱電機開發了超小型全SiC DIPIPM,保持相同的封裝及管....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 01-08 13:48 ?1168次閱讀
三菱電機超小型全SiC DIPIPM解析

三菱電機開始提供S1系列HVIGBT模塊樣品

三菱電機集團近日宣布,將于12月26日開始提供兩款新的S1系列高壓絕緣柵雙極型晶體管(HVIGBT)....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 12-25 15:59 ?459次閱讀
三菱電機開始提供S1系列HVIGBT模塊樣品

一文了解三菱電機高壓SiC芯片技術

三菱電機開發了高耐壓SiC MOSFET,并將其產品化,率先將其應用于驅動鐵路車輛的變流器中,是一家....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 12-18 17:35 ?984次閱讀
一文了解三菱電機高壓SiC芯片技術

三菱電機1200V級SiC MOSFET技術解析

1200V級SiC MOSFET是一種能充分發揮SiC優勢的器件,廣泛應用于工業、汽車等領域。目前,....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 12-04 10:50 ?1205次閱讀
三菱電機1200V級SiC MOSFET技術解析

三菱電機將新建功率半導體模塊封裝與測試工廠

三菱電機集團近日宣布,將投資約100億日元,在日本福岡縣的功率器件制作所建設一座新的功率半導體模塊封....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 11-20 17:57 ?938次閱讀

一文詳解SiC柵極絕緣層加工工藝

柵極氧化層可靠性是SiC器件應用的一個關注點。本節介紹SiC柵極絕緣層加工工藝,重點介紹其與Si的不....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 11-20 17:38 ?669次閱讀
一文詳解SiC柵極絕緣層加工工藝

三菱電機提供200Gbps PIN-PD芯片樣品

三菱電機集團近日宣布提供用于下一代光收發器的新型200Gbps PIN光電二極管(PD)芯片樣品,以....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 11-14 15:06 ?613次閱讀
三菱電機提供200Gbps PIN-PD芯片樣品

三菱電機供應12英寸功率半導體芯片

三菱電機集團近日宣布,其功率器件制作所(Power Device Works)福山工廠即日起開始大規....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 11-14 15:03 ?540次閱讀

深度了解第8代1800A/1200V IGBT功率模塊

本文介紹了為工業應用設計的第8代1800A/1200V IGBT功率模塊,該功率模塊采用了先進的第8....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 11-14 14:59 ?1180次閱讀
深度了解第8代1800A/1200V IGBT功率模塊

深度了解SiC的晶體結構

SiC是由硅(Si)和碳(C)按1:1的化學計量比組成的晶體,因其內部結構堆積順序的不同,形成不同的....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 11-14 14:57 ?2363次閱讀
深度了解SiC的晶體結構

深度了解SiC材料的物理特性

與Si材料相比,SiC半導體材料在物理特性上優勢明顯,比如擊穿電場強度高、耐高溫、熱傳導性好等,使其....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 11-14 14:55 ?1483次閱讀
深度了解SiC材料的物理特性

一文詳解SiC的晶體缺陷

SiC晶體中存在各種缺陷,對SiC器件性能有直接的影響。研究清楚各類缺陷的構成和生長機制非常重要。本....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 11-14 14:53 ?1454次閱讀
一文詳解SiC的晶體缺陷

一文詳解SiC單晶生長技術

高質量低缺陷的SiC晶體是制備SiC功率半導體器件的關鍵,目前比較主流的生長方法有PVT法、液相法以....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 11-14 14:51 ?1053次閱讀
一文詳解SiC單晶生長技術

SiC單晶襯底加工技術的工藝流程

SiC單晶是一種硬而脆的材料,切片加工難度大,磨削精度要求高,因此晶圓制造是一個長時間且難度較高的過....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 11-14 14:49 ?798次閱讀
SiC單晶襯底加工技術的工藝流程

SiC外延生長技術的生產過程及注意事項

SiC外延生長技術是SiC功率器件制備的核心技術之一,外延質量直接影響SiC器件的性能。目前應用較多....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 11-14 14:46 ?880次閱讀
SiC外延生長技術的生產過程及注意事項

三菱電機提供SiC MOSFET裸片樣品

近日,三菱電機集團宣布,將于11月14日開始提供用于電動汽車(EV)、插電式混合動力汽車(PHEV)....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 11-14 14:43 ?1302次閱讀

SiC的離子注入工藝及其注意事項

離子注入是SiC器件制造的重要工藝之一。通過離子注入,可以實現對n型區域和p型區域導電性控制。本文簡....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 11-09 11:09 ?723次閱讀

軌道牽引用3.3kV SBD嵌入式SiC-MOSFET模塊

三菱電機新開發了3.3kV金屬氧化物半導體場效應管碳化硅模塊(SiC-MOSFET),采用了嵌入式肖....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 10-31 16:47 ?980次閱讀
軌道牽引用3.3kV SBD嵌入式SiC-MOSFET模塊

三菱電機紅外傳感器國內首次亮相

三菱電機紅外傳感器采用三菱電機自主研發的熱敏二極管紅外傳感器技術,實現了高像素和高溫分辨率。即使在昏....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 09-13 10:50 ?754次閱讀

三菱電機發布用于5G massive MIMO基站的16W GaN PAM

三菱電機集團近日宣布,開始為5G massive MIMO*1(mMIMO)基站提供新型16W平均功....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 09-13 10:47 ?742次閱讀

三菱電機助力大功率逆變器開發

三菱電機集團近日宣布,將推出一項基于網絡的服務,提供有關配備包含三個LV100絕緣柵雙極型晶體管(I....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 09-13 10:39 ?780次閱讀
三菱電機助力大功率逆變器開發

三菱電機SiC器件的發展歷程

三菱電機從事SiC器件開發和應用研究已有近30年的歷史,從基礎研究、應用研究到批量商業化,從2英寸、....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 07-24 10:24 ?908次閱讀
三菱電機SiC器件的發展歷程

三菱電機功率器件發展史

三菱電機從事功率半導體開發和生產已有六十多年的歷史,從早期的二極管、晶閘管,到MOSFET、IGBT....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 07-24 10:17 ?862次閱讀
三菱電機功率器件發展史

三菱電機推出兩款新型SBD嵌入式SiC-MOSFET模塊

三菱電機集團近日宣布,從6月10日起開始為包括鐵路和電力系統在內的大型工業設備提供低電流版本3.3k....
的頭像 三菱電機半導體 發表于 06-12 14:17 ?883次閱讀
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