晶圓外延膜厚測試儀
技術點：
1.設備功能：
? 自動膜厚測試機EFEM，搭配客戶OPTM測量頭,完成晶圓片自動上料、膜厚檢測、分揀下料；
2.工作狀態(tài)：
? 晶圓尺寸8/12 inch；
? 晶圓材質(zhì)：Sapphire、LT/LN(含透明和非黑化基板)、Si 、 SiC；
? 客戶端OPTM測量頭，設備尺寸556(W)×566(D)×618(H)mm，單次檢測C/T約20s；
? 需要根據(jù)OPTM反饋測量結果對測試晶圓片進行OK/NG分選；
3.滿足需求：
? 設備可滿足8/12 inch晶圓膜厚檢測的自動上料、分選；
? 設備PA和Mapping Sensor要求兼容透明及半透明材質(zhì)Wafer；
? 設備Port４個，Port形式為OC，每個Port可兼容8/12inch Cassette,其中一個Port作為NG下料使用，
位置可根據(jù)需要自由設定；
? 設備整體潔凈度1000 class；
optm檢測頭：
