恒普科技突破性解決了碳化鉭涂層技術（CVD）
采用碳化鉭TaC涂層, 是解決邊緣問題，提高晶體生長質量，是“長快、長厚、長大”的核心技術方向之一。....
碳化硅單晶襯底加工技術的工藝及現狀研究
作為半導體產業中的襯底材料，碳化硅單晶具有優異的熱、電性能，在高溫、高頻、大功率、抗輻射集成電子器件....
柵極驅動器和偏置電源注意事項
氮化鎵 (GaN) 是電力電子行業的熱門話題，因為它可以使得 80Plus 鈦電源、3.8kW/L ....
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